[實用新型]一種方形復合式殼型電極半導體探測器有效
| 申請號: | 201820477209.0 | 申請日: | 2018-04-04 |
| 公開(公告)號: | CN208077991U | 公開(公告)日: | 2018-11-09 |
| 發明(設計)人: | 李正;劉曼文 | 申請(專利權)人: | 湘潭大學 |
| 主分類號: | H01L31/0224 | 分類號: | H01L31/0224;H01L31/0352;H01L31/08;H01L31/18 |
| 代理公司: | 長沙新裕知識產權代理有限公司 43210 | 代理人: | 周躍仁 |
| 地址: | 411105 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電極 正面溝槽 中央柱 半導體基體 溝槽電極 刻蝕 半導體探測器 復合式 斜紋狀 殼型 半導體基體表面 二氧化硅絕緣層 電極接觸層 二氧化硅 覆蓋電極 矩形中空 擴散摻雜 襯底層 接觸層 底面 覆蓋 制備 環繞 | ||
1.一種方形復合式殼型電極半導體探測器,其特征在于,包括正面溝槽電極(2)、反面溝槽電極(5)和中央柱狀電極(3),其中正面溝槽電極(2)、反面溝槽電極(5)和中央柱狀電極(3)由半導體基體(1)通過刻蝕、擴散摻雜的方法制備形成,正面溝槽電極(2)和反面溝槽電極(5)環繞于中央柱狀電極(3)之外,其中,正面溝槽電極(2)和反面溝槽電極(5)為矩形中空電極;正面溝槽電極(2)刻蝕成結構相同,且結構上互為互補的兩半,在正面溝槽電極(2)間沒有刻蝕的部分形成斜紋狀半導體基體(4),且斜紋狀半導體基體(4)寬度小于10μm;正面溝槽電極(2)和中央柱狀電極(3)上覆蓋有電極接觸層,正面未覆蓋電極接觸層的其他半導體基體(1)表面覆蓋二氧化硅絕緣層,底面設置有二氧化硅襯底層。
2.根據權利要求1所述的方形復合式殼型電極半導體探測器,其特征在于,所述正面溝槽電極(2)的厚度小于探測器整體高度的十分之一。
3.根據權利要求1所述的方形復合式殼型電極半導體探測器,其特征在于,所述的方形復合式殼型電極半導體探測器能通過共用正面溝槽電極(2)的電極壁組成M*N陣列的探測器陣列。
4.根據權利要求1所述的方形復合式殼型電極半導體探測器,其特征在于,所述半導體基體(1)材質采用硅、氧化硅、Ge、HgI2、GaAs、TiBr、CdTe、CdZnTe、CdSe、GaP、HgS、PbI2或AlSb中的一種或多種的組合。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





