[實(shí)用新型]一種溝渠式肖特基二極管有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820473005.X | 申請日: | 2018-04-04 |
| 公開(公告)號: | CN207977319U | 公開(公告)日: | 2018-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王錳 | 申請(專利權(quán))人: | 上海芯石半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/872 | 分類號: | H01L29/872;H01L29/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 上海市浦東新區(qū)自由貿(mào)易試驗(yàn)*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 肖特基二極管 摻雜層 金屬層 磊晶層 溝渠 本實(shí)用新型 半導(dǎo)體層 基板 金屬材料 第二電極 第一電極 電流信號 高功函數(shù) 基板頂部 逆向偏壓 順向偏壓 正向電壓 正向偏壓 氧化層 加載 填入 緊湊 | ||
本實(shí)用新型公開了一種溝渠式肖特基二極管,包括基板、磊晶層、摻雜層、金屬層、半導(dǎo)體層和溝槽,基板底部設(shè)有第一電極,基板頂部設(shè)有磊晶層,磊晶層頂部設(shè)有摻雜層,摻雜層頂部設(shè)有金屬層,摻雜層和金屬層之間間隔設(shè)有若干溝槽,溝槽底部設(shè)有氧化層,溝槽內(nèi)部設(shè)有半導(dǎo)體層,金屬層頂部設(shè)有第二電極,該種溝渠式肖特基二極管,結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)完整緊湊,通過若干個(gè)溝槽的設(shè)置,在溝槽填入具有高功函數(shù)的金屬材料,從而提高肖特基二極管的順向偏壓特性,可承受高逆向偏壓,當(dāng)肖特基二極管處于正向偏壓時(shí),通過摻雜層的設(shè)置,從而使得肖特基二極管在加載較小的正向電壓時(shí)就能獲得較好的電流信號值的效果,本實(shí)用新型設(shè)計(jì)合理,適合推廣使用。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種二極管,尤其是涉及一種溝渠式肖特基二極管。
背景技術(shù)
肖特基二極管(SBD)是肖特基勢壘二極管(SchottkyBarrierDiode,縮寫成SBD)的簡稱,是以其發(fā)明人肖特基博士(Schottky)命名的半導(dǎo)體器件。肖特基二極管是低功耗、大電流、超高速半導(dǎo)體器件,它不是利用P型半導(dǎo)體與N型半導(dǎo)體接觸形成PN結(jié)原理制作的,而是利用金屬與半導(dǎo)體接觸形成的金屬-半導(dǎo)體結(jié)原理制作的。因此,SBD也稱為金屬-半導(dǎo)體(接觸)二極管或表面勢壘二極管,它是一種熱載流子二極管。
肖特基二極體最大的缺點(diǎn)是其反向偏壓較低及反向漏電流偏大,像使用硅及金屬為材料的肖特基二極體,其反向偏壓額定耐壓最高只到50V,而反向漏電流值為正溫度特性,容易隨著溫度升高而急遽變大,實(shí)務(wù)設(shè)計(jì)上需注意其熱失控的隱憂,肖特基二極體實(shí)際使用時(shí)的反向偏壓都會比其額定值小很多。結(jié)合有肖特基特性的元件,通常具有可高速切換、開關(guān)快速的優(yōu)點(diǎn)。然而,實(shí)務(wù)上發(fā)現(xiàn),一些肖特基二極管當(dāng)制作為可承受較高的逆向偏壓的元件時(shí)(也就是具有高崩潰電壓,其順向偏壓特性會變差,換句話說,要產(chǎn)生相同電流時(shí)所需的順向偏壓必須加大,因此,為了解決上述問題,設(shè)計(jì)一種溝渠式肖特基二極管。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有肖特基二極管作為可承受較高的逆向偏壓的元件時(shí),肖特基二極管順向偏壓特性會較差的缺陷,提供一種溝渠式肖特基二極管,從而解決上述問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種溝渠式肖特基二極管,包括基板、磊晶層、摻雜層、金屬層、半導(dǎo)體層和溝槽,所述基板底部設(shè)有第一電極,所述基板頂部設(shè)有磊晶層,所述磊晶層頂部設(shè)有摻雜層,所述摻雜層頂部設(shè)有金屬層,所述摻雜層和金屬層之間間隔設(shè)有若干溝槽,所述溝槽底部設(shè)有氧化層,所述溝槽內(nèi)部設(shè)有半導(dǎo)體層,所述金屬層頂部設(shè)有第二電極。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案,所述金屬層為金屬硅化物。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案,所述磊晶層為n型多晶硅。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案,所述基板為n型硅基板。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案,所述金屬硅化物為鈷的硅化物。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案,所述基板的載子濃度大于磊晶層的載子濃度。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案,所述第二電極和金屬層的材料相同。
與目前技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:該種溝渠式肖特基二極管,結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)完整緊湊,通過若干個(gè)溝槽的設(shè)置,在溝槽填入具有高功函數(shù)的金屬材料,從而提高肖特基二極管的順向偏壓特性,可承受高逆向偏壓,當(dāng)肖特基二極管處于正向偏壓時(shí),通過摻雜層的設(shè)置,從而使得肖特基二極管在加載較小的正向電壓時(shí)就能獲得較好的電流信號值的效果,本實(shí)用新型設(shè)計(jì)合理,適合推廣使用。
附圖說明
附圖用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解,并且構(gòu)成說明書的一部分,與本實(shí)用新型的實(shí)施例一起用于解釋本實(shí)用新型,并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的限制。在附圖中:
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





