[實用新型]用于地下中子能電站的防核素遷移屏障體

有效

• 申請號: 201820440532.0
• 申請日: 2018-03-29
• 公開（公告）號: CN208538496U
• 公開（公告）日: 2019-02-22
• 發明（設計）人: 何滿潮;楊曉杰;喬亞飛;劉國釗;趙思奕
• 申請（專利權）人: 何滿潮
• 主分類號: G21F3/00
• 分類號: G21F3/00;G21F1/12;G21F9/34
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 韓嫚嫚;王春光

1.一種用于地下中子能電站的防核素遷移屏障體，其特征在于，包括：

設置在地下硐室下部的人工屏障結構體，所述人工屏障結構體具有底壁、周側壁及頂壁，所述底壁、所述周側壁及所述頂壁之間形成有容納腔，所述底壁、所述周側壁及所述頂壁均具有由內至外依次設置的鉛粉混凝土層、粘土層和鋼筋混凝土層；

注漿層，其圍設在所述人工屏障結構體的外側；

圍巖層，其位于所述注漿層的外側，所述圍巖層具有圍巖厚度。

2.如權利要求1所述的用于地下中子能電站的防核素遷移屏障體，其特征在于，所述頂壁與所述地下硐室的底壁相連，所述底壁的所述鋼筋混凝土層的外側和所述周側壁的所述鋼筋混凝土層的外側分別設有所述注漿層。

3.如權利要求1所述的用于地下中子能電站的防核素遷移屏障體，其特征在于，所述人工屏障結構體距離地面的垂直距離不小于70m。

4.如權利要求1所述的用于地下中子能電站的防核素遷移屏障體，其特征在于，所述粘土層包括粘土塊內層和粘土粉外層，所述粘土塊內層由多個粘土塊拼接形成，所述粘土粉外層夾設在所述粘土塊內層與所述鋼筋混凝土層之間。

5.如權利要求1所述的用于地下中子能電站的防核素遷移屏障體，其特征在于，所述粘土層由多個粘土塊拼接形成。

6.如權利要求4所述的用于地下中子能電站的防核素遷移屏障體，其特征在于，所述底壁的所述粘土塊內層包括多個圓環體以及設置在所述多個圓環體中部的中間塊體，所述圓環體由多個弧形塊體拼接形成。

7.如權利要求5所述的用于地下中子能電站的防核素遷移屏障體，其特征在于，所述底壁的所述粘土層包括多個圓環體以及設置在所述多個圓環體中部的中間塊體，所述圓環體由多個弧形塊體拼接形成。

8.如權利要求6或7所述的用于地下中子能電站的防核素遷移屏障體，其特征在于，所述中間塊體為正方形塊體；或者，所述中間塊體由兩個梯形塊體拼接組成。

9.如權利要求1所述的用于地下中子能電站的防核素遷移屏障體，其特征在于，所述人工屏障結構體為圓柱體形、長方體形或多棱柱體形。

10.如權利要求1所述的用于地下中子能電站的防核素遷移屏障體，其特征在于，所述鉛粉混凝土層的厚度為50cm～100cm；所述粘土層的厚度為30cm～40cm；所述鋼筋混凝土層的厚度為50cm～70cm；所述注漿層的厚度為20cm～50cm。