[實用新型]一種靶材鎖緊裝置

有效

• 申請號: 201820432038.X
• 申請日: 2018-03-28
• 公開（公告）號: CN208201103U
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發明（設計）人: 陳君;樂務時
• 申請（專利權）人: 蘇州涂冠鍍膜科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及一種靶材鎖緊裝置，屬于表面處理技術領域，它解決了現有技術中靶材利用率低的問題。本靶材鎖緊裝置，靶材為截面呈梯形的柱狀結構，靶材鎖緊裝置包括呈一端開口的靶座固定環，靶座固定環內表面設有內螺紋，靶座固定環螺紋連接有靶材壓緊環，靶材壓緊環外側與靶座固定環內表面螺紋連接，靶材壓緊環內側壓緊于靶材的外側斜面，靶材與靶座固定環之間還設有密封冷卻裝置。本鎖緊裝置靶材的直接損失可降到5％以下，且固定鎖緊方便可靠，通過螺紋和設定的小工具配合扭力扳手，可以方便的在靶以外的空間操作，并按照固定的力矩鎖緊，排除誤操作、真空壓力變化、冷熱變化引起的松弛漏氣問題。

技術領域

本實用新型屬于表面處理技術領域，涉及一種表面處理用的設備配件，特別是一種PVD表面處理技術中的靶材鎖緊裝置。

背景技術

PVD是一種應用非常廣泛的表面處理和薄膜制備技術，大量應用在航空航天、醫療、食品、智能設備和機械制造領域，具體分為三種技術方式實現，蒸發、濺射和離子鍍膜。

靶材是真空鍍膜的主要耗材，材料要求高，使用環境嚴格。真空鍍膜涉及到蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜。蒸發鍍膜是將原材料放置到蒸發舟內，材料利用率高，而對于濺射鍍膜和離子鍍膜，由于工作離子需受電磁場的約束靶材必須固定設置，固定方式可以是螺紋固定、凸臺固定、臺階固定等，這種方式會帶來靶材利用率不高，甚至乎靶材利用率只有不到50％，導致嚴重的浪費。另外，在真空鍍膜時靶材表面溫度較高，為防止靶材溶化需要對靶材進行有效冷卻，因此對靶材固定裝置提出了更高的要求。

實用新型內容

本實用新型的目的是針對現有的技術存在上述問題，提出了一種靶材利用率高的靶材鎖緊裝置。

本實用新型的目的可通過下列技術方案來實現：一種靶材鎖緊裝置，其特征在于，所述的靶材為截面呈梯形的柱狀結構，靶材鎖緊裝置包括呈一端開口的靶座固定環，所述的靶座固定環內表面設有內螺紋，所述的靶座固定環螺紋連接有靶材壓緊環，所述的靶材壓緊環外側與靶座固定環內表面螺紋連接，所述的靶材壓緊環內側壓緊于靶材的外側斜面，所述的靶材與靶座固定環之間還設有密封冷卻裝置。

在上述的靶材鎖緊裝置中，所述靶材的橫截面為等腰梯形，梯形的底角為75°～85°。

在上述的靶材鎖緊裝置中，所述的梯形底角為83°。

在上述的靶材鎖緊裝置中，所述的密封冷卻裝置包括設置于靶座固定環底部與靶材之間的密封板，所述的密封板與靶材底部之間設有導熱墊。

在上述的靶材鎖緊裝置中，所述的密封板兩側分別緊貼于靶座固定環和靶材底部，所述的密封板采用金屬材料制成，所述的導熱墊采用金屬材料制成。

在上述的靶材鎖緊裝置中，所述的密封板與靶座固定環之間設有密封圈。

在上述的靶材鎖緊裝置中，所述的密封板材料為不銹鋼，導熱墊材料為錫、銀、銦錫合金等。

在上述的靶材鎖緊裝置中，所述的密封冷卻裝置包括設置于靶材固定座底部的密封環，所述的密封環一端與靶材底部貼合，另一端與靶座固定環底部貼合，所述的密封環兩側均設有密封圈。

在上述的靶材鎖緊裝置中，所述的靶材壓緊環采用陶瓷或者工程塑料制成。陶瓷如剛玉、氮化硼、碳化硅等，塑料如特氟龍、PET等。

與現有技術相比，本鎖緊裝置通過選用錐狀結構的靶材，利用靶材鎖緊裝置壓緊，僅僅利用靶材使用時不能被有效利用的側邊作為定位點，不會造成靶材的浪費，因此靶材使用率大幅提升，靶材的直接損失可降到5％以下。本發明的另一個優點是固定鎖緊方便可靠，通過螺紋和設定的小工具配合扭力扳手，可以方便的在靶以外的空間操作，并按照固定的力矩鎖緊，排除誤操作、真空壓力變化、冷熱變化引起的松弛漏氣問題。

附圖說明

圖1是本靶材鎖緊裝置中實施例1的結構示意圖；