[實用新型]觀測薄膜窗口

有效

• 申請號: 201820406078.7
• 申請日: 2018-03-23
• 公開（公告）號: CN208013057U
• 公開（公告）日: 2018-10-26
• 發明（設計）人: 胡慧珊;溫賽賽;馬碩;王新亮
• 申請（專利權）人: 蘇州原位芯片科技有限責任公司
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01;G01N23/02;H01J37/20
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 李明

本實用新型公開了一種觀測薄膜窗口，包括：襯底，其包括相對設置的第一表面和第二表面；預定厚度的薄膜，其設置在第一表面和第二表面上，薄膜的形狀和尺寸與襯底的形狀和尺寸一致；襯底上還設置有貫穿第一表面和第二表面的觀測凹槽；并且，觀測凹槽還貫穿位于第一表面或第二表面上的薄膜；坐標結構，坐標結構設置在薄膜上，且坐標結構與觀測凹槽相對應，坐標結構用于對樣品進行觀測定位。其在薄膜上設置有坐標結構，這樣，在對樣品進行觀測時，坐標結構能有效地進行對樣品的觀測定位，并且在光學顯微鏡和透射電鏡觀測切換的時候，有效記錄對應樣品的位置。因此，本實用新型的觀測薄膜窗口可以實現快速定位，提高樣品觀測效率。

技術領域

本實用新型涉及微納米表征技術領域，具體涉及一種觀測薄膜窗口。

背景技術

微納米表征技術在科學研究中起著最為直觀基礎的作用，受到廣泛科研人員的極度重視。對于納米材料及生物樣品如病毒、細胞，許多表征手段如TEM(透射電子顯微鏡)等需要一種能使電子束透過的支撐薄膜。而X-射線設備需要優質耐壓及耐受高低能量X射線的透過率支撐載膜，支撐載膜需要滿足超薄、耐高溫、耐高壓的要求，以保證X-射線的透射率和X-射線設備的真空要求。生物領域方面的樣品如病毒、細胞等等的觀測表征對于周圍環境的變化較為敏感，易造成破損。因而在微納米表征手段中，以上幾點對于承載體有著許多方面的限制，現今市面上存在的銅網碳膜載體，雖然能滿足大部分的觀測需求，仍有許多不足的地方，如背景噪音大、對生物樣品親和性較差、難以定位等等。

實用新型內容

本實用新型旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一，提出了一種觀測薄膜窗口。

為了實現上述目的，本實用新型的提供了一種觀測薄膜窗口，包括：

襯底，其包括相對設置的第一表面和第二表面；

預定厚度的薄膜，其設置在所述第一表面和所述第二表面上，所述薄膜的形狀和尺寸與所述襯底的形狀和尺寸一致；

所述襯底上還設置有貫穿所述第一表面和所述第二表面的觀測凹槽；并且，所述觀測凹槽還貫穿位于所述第一表面或所述第二表面上的所述薄膜；

坐標結構，所述坐標結構設置在所述薄膜上，且所述坐標結構與所述觀測凹槽相對應，所述坐標結構用于對樣品進行觀測定位。

可選地，所述坐標結構包括多個貫穿所述薄膜的通孔；其中，

多個所述通孔交叉排列成一行和一列，以限定出四個象限區域，并且，

處于同一行中的各所述通孔之間的距離相等，

處于同一列中的各所述通孔之間的距離相等。

可選地，所述坐標結構還包括多個通孔標識；其中，

各象限區域中至少設置有一個所述通孔標識。

可選地，處于同一行中的各所述通孔之間的距離為0.1～100μm；和/或，

處于同一列中的各所述通孔之間的距離為0.1～100μm。

可選地，處于同一行中的各所述通孔的直徑為0.1～100μm；和/或，

處于同一列中的各所述通孔的直徑為0.1～100μm。

可選地，所述觀測凹槽的尺寸為0.05～20mm。

可選地，所述薄膜的預定厚度為1-500nm。

可選地，所述襯底的厚度為50-1000um。

可選地，所述襯底為N型或P型單晶硅。