[實用新型]一種可避免曝光不良的菲林片有效
| 申請號: | 201820404005.4 | 申請日: | 2018-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN207965468U | 公開(公告)日: | 2018-10-12 |
| 發明(設計)人: | 蔣海雷 | 申請(專利權)人: | 廣東祥益鼎盛有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/38 | 分類號: | G03F1/38;G03F1/48 |
| 代理公司: | 東莞市中正知識產權事務所(普通合伙) 44231 | 代理人: | 張漢青 |
| 地址: | 516000 廣東省惠州市仲愷高新區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 菲林片 主機構 本實用新型 防護層 曝光 刀痕 蝕刻 邊緣防護 曝光光線 曝光效果 線路短路 折射 保證 | ||
1.一種可避免曝光不良的菲林片,包括菲林片主機構(1),其特征在于:所述菲林片主機構(1)底部設有底部防護層(2)以及頂部設有頂部防護層(3),所述菲林片主機構(1)外側設有邊緣防護層(4),所述菲林片主機構(1)包括菲林片本體(5),所述菲林片本體(5)上設有刀痕(6)。
2.根據權利要求1所述的一種可避免曝光不良的菲林片,其特征在于:所述底部防護層(2)與邊緣防護層(4)一體成型。
3.根據權利要求1所述的一種可避免曝光不良的菲林片,其特征在于:所述刀痕(6)設置為圓形。
4.根據權利要求1所述的一種可避免曝光不良的菲林片,其特征在于:所述頂部防護層(3)與邊緣防護層(4)粘接。
5.根據權利要求1所述的一種可避免曝光不良的菲林片,其特征在于:所述菲林片主機構(1)設于底部防護層(2)、頂部防護層(3)和邊緣防護層(4)之間。
6.根據權利要求1所述的一種可避免曝光不良的菲林片,其特征在于:所述菲林片本體(5)頂面與底面均設有刀痕(6)。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





