[實用新型]一種鋰離子電池的集流體基材清潔裝置有效
| 申請號: | 201820397234.8 | 申請日: | 2018-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN208407924U | 公開(公告)日: | 2019-01-22 |
| 發明(設計)人: | 吳賽舟;孫曉輝;馬國 | 申請(專利權)人: | 浙江衡遠新能源科技有限公司;山東衡遠新能源科技有限公司 |
| 主分類號: | B08B7/00 | 分類號: | B08B7/00;B08B13/00;H01M4/64;H01M10/0525;B05C9/10;B05C13/02 |
| 代理公司: | 臺州市方圓專利事務所(普通合伙) 33107 | 代理人: | 郭斌斌 |
| 地址: | 321000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鋰離子電池 集流體基材 清潔輥 清潔裝置 本實用新型 驅動機構 表面包裹 清潔效果 上下移動 周向轉動 膠層 驅動 清潔 | ||
本實用新型提供了一種鋰離子電池的集流體基材清潔裝置,屬于鋰離子電池技術領域。它解決了現有技術中對鋰離子電池的集流體基材清潔效果慢且效果不佳的問題。一種鋰離子電池的集流體基材清潔裝置,包括機架,所述機架上設置有能周向轉動的清潔輥,所述清潔輥的表面包裹有具有粘性的膠層,所述清潔輥的兩端分別連接有能驅動清潔輥上下移動的驅動機構,所述驅動機構固定在機架上。本實用新型能夠快速有效對鋰離子電池的集流體基材進行清潔。
技術領域
本實用新型屬于鋰離子電池技術領域,涉及一種鋰離子電池的集流體基材清潔裝置。
背景技術
鋰離子電池生產過程中,鋰離子電池的極片由集流體基材(銅箔、鋁箔等)制成板,之后在基板上進行涂布工作,涂布指的是在基板上涂覆由活性物質、導電劑、粘結劑、增稠劑等組成的漿料。為了保證涂布效果好,集流體基材必須要嚴格保證表面光潔、無任何異物,否則會造成涂布不良異常,輕者如顆粒劃痕,造成報廢增加;重者如金屬異物未清理干凈,會導致生產的鋰離子電池自放電嚴重,甚至是出現短路,造成嚴重的安全事故。
鋰離子電池行業普遍使用的鋁箔為集流體基材,鋁箔的制造工藝為:鋁箔坯料(鑄軋、熱軋)→退火→冷軋→粗軋→中軋→精軋→分切成卷。鋁箔在壓延、分切過程中必然會有鋁粉產生并混入箔卷內。對集流體基材表面不進行清潔就開始涂布,會對鋰離子電池的質量產生嚴重影響。
為此中國專利文獻公開了的申請號為CN200520004301.8的一種用于涂布機的集流體清潔裝置,在涂布機的機架上設有清潔器,清潔器與涂布機的支撐輥輥面接觸。清潔器包括清洗部件、清洗本體,清洗部件設置在清潔器上,該機架上還設有將清洗部件潤濕的清洗液送給機構,該清洗機構包括洗液槽、輸送管、可以控制清洗液的流量的控制閥。該裝置通過將清洗部件潤濕后對支撐輥上的集流體進行擦拭,雖然具有一定的效果,但是存在以下缺陷:濕的清洗部件使集流體表面有水,從而并不能馬上進行涂布,從而嚴重影響涂布效率,并且清洗部件一般為刷毛,而刷毛較少清洗不干凈,刷毛較多則刷毛容易掉到集流體上造成雜質混入,因此清潔效果不佳。
發明內容
本實用新型針對現有的技術存在上述問題,提出了一種鋰離子電池的集流體基材清潔裝置,本實用新型所要解決的技術問題是如何快速有效對鋰離子電池的集流體基材進行清潔。
本實用新型通過下列技術方案來實現:一種鋰離子電池的集流體基材清潔裝置,包括機架,所述機架上設置有能周向轉動的清潔輥,其特征在于,所述清潔輥的表面包裹有具有粘性的膠層,所述清潔輥的兩端分別連接有能驅動清潔輥上下移動的驅動機構,所述驅動機構固定在機架上。
本鋰離子電池的集流體基材清潔裝置通過設置表面具有膠層的清潔輥,并且清潔輥被驅動機構驅動上下移動,使清潔輥能夠與鋰離子電池的集流體基材表面接觸,膠層對集流體基材的表面異物進行粘貼,從而快速有效使集流體基材表面清潔。具體工作過程為驅動機構驅動清潔輥動作,使清潔輥與集流體基材表面接觸,集流體基材運動通過清潔輥帶動清潔輥轉動,在轉動過程中清潔輥的膠層持續對集流體基材表面進行清潔,粘走集流體基材表面的異物。將本清潔裝置安裝在涂布機放卷機構和涂布單元之間的過輥間隙中,從而本裝置快速對集流體基材表面進行清潔后,集流體基材馬上進入涂布單元進行涂布,從而工作效率快。相對于現有技術本裝置在膠層對集流體基材的表面異物進行粘貼后,集流體基材就能夠進行涂布工作,不需要等集流體基材干燥,從而清潔速度快,并且不影響涂布效率,同時膠層與集流體基材平滑接觸,不會損傷集流體基材表面或留下其他異物,進一步提高清潔效果。
在上述的鋰離子電池的集流體基材清潔裝置中,所述清潔輥的數量為兩個,兩個清潔輥分別為用于對上述集流體基材的上表面進行清潔的上清潔輥和對上述集流體基材的下表面進行清潔的下清潔輥,所述上清潔輥位于下清潔輥的后方。通過上清潔輥和下清潔輥分別對集流體基材的上下表面進行清潔,從而保證集流體基材的清潔效果。將上清潔輥位于下清潔輥的后方,從而上清潔輥和下清潔輥的上下移動不會產生干涉,并且能夠提高清潔輥與集流體基材的接觸面積。
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