[實用新型]能夠實現電加熱的鍍膜層、包含其的鍍膜玻璃、電加熱玻璃

有效

• 申請號: 201820385216.8
• 申請日: 2018-03-21
• 公開（公告）號: CN208346042U
• 公開（公告）日: 2019-01-08
• 發明（設計）人: 范少峰;江浩;許浩;邵帥;魏征;伊洋洋
• 申請（專利權）人: 上海耀皮玻璃集團股份有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34;H05B3/84;H05B3/14
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟

本實用新型涉及一種能夠實現電加熱的鍍膜層、包含其的鍍膜玻璃、電加熱玻璃，所述能夠實現電加熱的鍍膜層，所述鍍膜層包括設置于最外層的電阻調節層，所述電阻調節層包括摻氟二氧化錫層和設置于所述摻氟二氧化錫層外側的第二二氧化硅層。本實用新型提供的電加熱的鍍膜層，第二二氧化硅層能夠將鍍膜層的電阻基數提高，之后通過設置摻氟二氧化錫層將電阻調節至合適的范圍。

技術領域

本實用新型屬于玻璃制備技術領域，尤其涉及一種能夠實現電加熱的鍍膜層、包含其的鍍膜玻璃、電加熱玻璃。

背景技術

Low-E玻璃又稱低輻射玻璃，是在玻璃表面鍍上多層金屬或其他化合物組成的膜系產品。其鍍膜層具有對可見光高透過及對中遠紅外線高反射的特性，使其與普通玻璃及傳統的建筑用鍍膜玻璃相比，具有優異的隔熱效果和良好的透光性。

玻璃是重要的建筑材料，隨著對建筑物裝飾性要求的不斷提高，玻璃在建筑行業中的使用量也不斷增大。然而，當今人們在選擇建筑物的玻璃門窗時，除了考慮其美學和外觀特征外，更注重其熱量控制、制冷成本和內部陽光投射舒適平衡等問題。Low-E玻璃就可以起到隔熱、透光的效果。

現有在線鍍膜玻璃生產工藝以制備低電阻的Low-e玻璃(低輻射玻璃)為主，因為電阻越低表示其輻射率越低，節能效果越好。在膜層結構上，也是將直接影響電阻高低的氟摻雜二氧化錫膜層放到外層(遠離玻璃側)，這樣可以將電阻降到最低，得到最好的Low-e節能效果。

而當玻璃置于兩側具有溫差的環境中時，由于溫差造成表面起霧，為了解決這一問題，通過通電加熱玻璃實現對凝霜凝露的主動控制，減少起霧的效果。但是當氟摻雜二氧化錫膜層在頂層時，方塊電阻正常在12Ω左右，即使我們通過HF摻雜量進行優化，也無法使鋼化前方塊電阻達到70Ω以上。而且氟摻雜二氧化錫膜層放在頂層時，Haze(霧度)一般在1％左右，這不僅會加強結霜結垢也會在視覺上給人朦朧的感觀。

因此，本領域需要開發一種能夠減少凝霜凝露的膜層，其能夠通電加熱，降低起霧現象；同時還要Haze(霧度)低，避免對視覺造成影響。

實用新型內容

針對現有技術的不足，本實用新型的目的之一在于提供一種能夠實現電加熱的鍍膜層，所述鍍膜層包括設置于最外層的電阻調節層，所述電阻調節層包括摻氟二氧化錫層和設置于所述摻氟二氧化錫層外側的第二二氧化硅層。

本實用新型提供的電加熱的鍍膜層，第二二氧化硅層能夠將鍍膜層的電阻基數提高，之后通過設置摻氟二氧化錫層將電阻調節至合適的范圍。

優選地，所述第二二氧化硅層的厚度為13～18nm，例如14nm、15nm、16nm、 17nm等。

優選地，所述摻氟二氧化錫層中氟原子和錫原子的摩爾比不做具體限定，任何一種摻氟二氧化錫層均可以實現發明目的。作為優選地方案，摻氟二氧化錫層中氟原子和錫原子的摩爾比為1:5～1:25，但這并不能夠說明其他的氟摻雜量不能夠實現發明目的。

優選地，所述摻氟二氧化錫層的厚度為120～220nm，例如130nm、150nm、 170nm、190nm、200nm等，優選160nm。

優選地，所述鍍膜層還包括依次設置于電阻調節層內側的第一二氧化硅層和二氧化錫層。

優選地，所述第一二氧化硅層厚度為18～24nm，例如19nm、20nm、21nm、 22nm、23nm等。

優選地，所述二氧化錫層厚度為20～30nm，例如21nm、22nm、23nm、24nm、 25nm、26nm、27nm、28nm、29nm等。

本實用新型目的之二是提供一種鍍膜玻璃，所述鍍膜玻璃包括玻璃基板和鍍制在所述玻璃基板上的如目的之一所述的能夠實現電加熱的鍍膜層。