[實(shí)用新型]吸附式治具的彈性體有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820384726.3 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208068616U | 公開(公告)日: | 2018-11-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賴奕誠;賴奕儒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 宸榤精機(jī)股份有限公司;賴奕誠;賴奕儒 |
| 主分類號(hào): | B28D7/04 | 分類號(hào): | B28D7/04 |
| 代理公司: | 北京泰吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11355 | 代理人: | 張雅軍;史瞳 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 內(nèi)環(huán)面 硅晶 外環(huán)面 吸附單元 環(huán)壁 吸附式 界定 吸口 治具 切割 矩陣排列 出氣室 階層式 徑寬 氣室 吸附 變形 口徑 環(huán)繞 鄰近 承載 扭曲 支撐 | ||
一種吸附式治具的彈性體,適用于承載硅晶,包含本體部,及多個(gè)吸附單元。所述本體部包括呈矩陣排列的多個(gè)氣孔。所述吸附單元形成在所述本體部且彼此相間隔,每一吸附單元包括環(huán)繞所述氣孔的環(huán)壁。所述環(huán)壁具有外環(huán)面、反向于所述外環(huán)面且界定出吸口的第一內(nèi)環(huán)面、反向于所述外環(huán)面且界定出氣室的第二內(nèi)環(huán)面,及連接所述外環(huán)面與所述第一內(nèi)環(huán)面且適用于接觸所述硅晶的接觸面。所述第二內(nèi)環(huán)面與所述外環(huán)面的徑寬大于所述第一內(nèi)環(huán)面與所述外環(huán)面的徑寬。借此,利用階層式的吸口與氣室,在不影響吸附口徑的情形下,提升所述環(huán)壁鄰近所述接觸面的部位的強(qiáng)度,在切割硅晶時(shí),不會(huì)扭曲或變形,不但能夠穩(wěn)定地支撐所述硅晶,且能提升所述硅晶的切割質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種吸附式治具,特別是涉及一種吸附式治具的彈性體。
背景技術(shù)
參閱圖1,一種中國臺(tái)灣專利號(hào)第M525541號(hào)專利案所公開的現(xiàn)有吸附式治具1。包含一個(gè)基座11,及設(shè)置在所述基座11上且適用于承載一片硅晶2的一個(gè)彈性體12。所述彈性體12包括呈矩陣排列且彼此相隔一個(gè)間距的多個(gè)氣孔121,及環(huán)繞所述氣孔121且界定出開口朝上的多個(gè)吸口122的多個(gè)環(huán)壁123。所述氣孔121連通于一個(gè)抽氣裝置(圖未示)。借此,當(dāng)所述氣孔121內(nèi)因?yàn)樨?fù)壓作用而產(chǎn)生吸力時(shí),會(huì)通過所述吸口122將所述硅晶2吸附在所述環(huán)壁123的頂面,進(jìn)而能夠在所述硅晶2被切割成多個(gè)晶片時(shí),達(dá)到支撐及固定所述硅晶2與所述晶片的目的。
在不損傷所述硅晶2的前提下,所述吸口122的大小,會(huì)影響吸附力,因此,吸口122的口徑愈大,相對(duì)所述硅晶2產(chǎn)生的吸附力就愈強(qiáng),惟,前述彈性體12通常是軟質(zhì)材料制成,所以,隨著所述吸口122的口徑愈大,所述環(huán)壁123的壁厚就愈薄,且隨著所述吸口122的深度愈深,支撐力就愈不足,以致于所述硅晶2被切割時(shí),所述環(huán)壁123很容易因?yàn)楸粩D壓而扭曲、變形,使所述晶片有邊角崩裂的狀況。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種能夠提供穩(wěn)定的支撐效果的吸附式治具的彈性體。
本實(shí)用新型的吸附式治具的彈性體,適用于承載一片硅晶,所述彈性體包含:本體部,及多個(gè)吸附單元。所述本體部包括呈矩陣排列且彼此相間隔的多個(gè)氣孔,所述吸附單元形成在所述本體部且彼此相間隔,每一吸附單元包括環(huán)繞所述氣孔的環(huán)壁,所述環(huán)壁具有外環(huán)面、反向于所述外環(huán)面且界定出吸口的第一內(nèi)環(huán)面、反向于所述外環(huán)面且界定出氣室的第二內(nèi)環(huán)面,及連接所述外環(huán)面一端緣與所述第一內(nèi)環(huán)面一端緣且適用于接觸所述硅晶的接觸面,所述吸口與所述氣室連通于相對(duì)位置的氣孔,所述第一內(nèi)環(huán)面與所述外環(huán)面的徑寬小于所述第二內(nèi)環(huán)面與所述外環(huán)面的徑寬。
本實(shí)用新型的吸附式治具的彈性體,所述吸附單元彼此相間隔且界定出縱向、橫向交錯(cuò)的多個(gè)切割槽。
本實(shí)用新型的吸附式治具的彈性體,每一吸附單元的環(huán)壁還具有連接所述第一內(nèi)環(huán)面另一端緣與所述第二內(nèi)環(huán)面一端緣的第一階面,所述第一階面沿所述吸口與所述氣室的深度方向與所述接觸面相隔第一間距。
本實(shí)用新型的吸附式治具的彈性體,每一吸附單元的環(huán)壁還具有連接所述第二內(nèi)環(huán)面另一端緣與所述本體部的第二階面,所述第二階面沿所述吸口與所述氣室的深度方向與所述接觸面相隔第二間距。
本實(shí)用新型的吸附式治具的彈性體,所述第二間距不小于所述第一間距。
本實(shí)用新型的有益效果在于:利用階層式的吸口與氣室,在不影響吸附口徑的情形下,提升所述環(huán)壁鄰近所述接觸面的部位的強(qiáng)度,進(jìn)而在切割硅晶時(shí),不會(huì)扭曲或變形,不但能夠穩(wěn)定地支撐所述硅晶,且能提升所述硅晶的切割質(zhì)量。
附圖說明
本實(shí)用新型的其他的特征及功效,將于參照?qǐng)D式的實(shí)施方式中清楚地呈現(xiàn),其中:
圖1是一張剖視圖,說明中國臺(tái)灣專利號(hào)第M525541號(hào)專利案所公開的一種現(xiàn)有吸附式治具的彈性體;
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