[實用新型]一種輪胎測量裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820360055.7 | 申請日: | 2018-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN208076166U | 公開(公告)日: | 2018-11-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 崔永剛 | 申請(專利權(quán))人: | 青島振華嘉益輪胎有限公司 |
| 主分類號: | G01M17/02 | 分類號: | G01M17/02;G01N3/10;G01B11/16 |
| 代理公司: | 濟南方宇專利代理事務所(普通合伙) 37251 | 代理人: | 俞波 |
| 地址: | 266000 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 輪胎 測量裝置 液壓機 豎桿 本實用新型 測量系統(tǒng) 施壓裝置 固定架 刻度板 施壓板 凸臺 底座 測量 激光位移傳感器 光學反射原理 點狀光源 橫向設(shè)置 三角運算 手工工具 新型輪胎 變形量 低成本 反光板 工作端 液壓表 易安裝 遮光板 輪轂 反射 配合 | ||
本實用新型提供的一種輪胎測量裝置,包括固定架、輪胎施壓裝置、測量系統(tǒng);固定架包括底座、豎桿、凸臺,豎桿、凸臺固定于底座上,豎桿上部橫向設(shè)置有與輪轂相配合的軸;輪胎施壓裝置包括液壓機、施壓板,液壓機為立式,帶有液壓表,施壓板與液壓機的工作端固定連接;測量系統(tǒng)包括點狀光源、反光板、遮光板、刻度板;光的反射形成在刻度板上的讀數(shù),通過三角運算得出輪胎在一定壓力下的變形量。相較于通過激光位移傳感器測量、通過手工工具測量等方式,本實用新型利用光學反射原理,是一種低成本、易安裝、精度較高的新型輪胎測量裝置。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及輪胎檢測領(lǐng)域,尤其涉及一種輪胎變形量的測量裝置。
背景技術(shù)
輪胎性能是汽車行駛安全的重要一環(huán),輪胎受到壓力的變形程度是輪胎性能的一個重要方面,市場上對輪胎變形程度的檢測有通過激光位移傳感器測量、通過手工工具測量等方式,激光位移傳感器的成本較高,手工工具測量精度不高,本實用新型利用光學反射原理,研發(fā)一種低成本、易安裝、精度較高的新型輪胎測量裝置。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型提供一種輪胎測量裝置,其具有低成本、易安裝、精度較高的特點,用以測量在輪胎受到壓力時的變形程度。
本實用新型提供的一種輪胎測量裝置,包括固定架、輪胎施壓裝置、測量系統(tǒng);固定架包括底座、豎桿、凸臺,豎桿、凸臺固定于底座上,豎桿上部橫向設(shè)置有與輪轂相配合的軸;輪胎施壓裝置包括液壓機、施壓板,液壓機為立式,帶有液壓表,施壓板與液壓機的工作端固定連接;測量系統(tǒng)包括點狀光源、反光板、遮光板、刻度板,點狀光源設(shè)置在光源桿上,光源桿、遮光板垂直于凸臺并與之固定,反光板粘貼在施壓板側(cè)面,刻度板垂直于底座并與之固定, 反光板、遮光板、刻度板三者相平行;點狀光源、反光板頂端、遮光板頂端三者在同一高度。
進一步的優(yōu)化,點狀光源與刻度板的水平距離為點狀光源到反光板水平距離的整數(shù)倍。
進一步的優(yōu)化,刻度板的零刻線水平高度與點狀光源的高度一致。
進一步的優(yōu)化,反光板采用水銀玻璃鏡。
本實用新型的有益效果:相較于通過激光位移傳感器測量、通過手工工具測量等方式,本實用新型利用光學反射原理,是一種低成本、易安裝、精度較高的新型輪胎測量裝置。
附圖說明
圖1是本實用新型主視圖示意圖。
1、固定架,11、底座,12、豎桿,13凸臺,14、與輪轂相配合的軸,2、輪胎施壓裝置,21、液壓機,22、施壓板,3、測量系統(tǒng),31、點狀光源,32、反光板,33、遮光板,34、刻度板,35、光源桿。
具體實施方式
為了更清楚地說明本實用新型的技術(shù)方案,下面通過實施例并結(jié)合附圖作簡單地介紹。
從附圖可以看出,本實用新型提供了一種輪胎測量裝置,包括固定架1、輪胎施壓裝置2、測量系統(tǒng)3;固定架1包括底座11、豎桿12、凸臺13,豎桿12、凸臺13固定于底座11上,豎桿11上部橫向設(shè)置有與輪轂相配合的軸14;輪胎施壓裝置2包括液壓機21、施壓板22,液壓機21為立式,帶有液壓表,施壓板22與液壓機21的工作端固定連接;測量系統(tǒng)3包括點狀光源31、反光板32、遮光板33、刻度板34,點狀光源31設(shè)置在光源桿35上,光源桿35、遮光板33垂直于凸臺13并與之固定,反光板32粘貼在施壓板22側(cè)面,反光板32采用水銀玻璃鏡,刻度板34垂直于底座11并與之固定, 反光板32、遮光板33、刻度板34三者相平行;點狀光源31、反光板32頂端、遮光板33頂端三者在同一高度,刻度板34的零刻線水平高度與點狀光源31的高度一致,向上為正數(shù);點狀光源31與刻度板34的水平距離為點狀光源31到反光板32水平距離的8倍。
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