[實用新型]一種化學氣相沉積爐的基體支撐裝置及基體旋轉驅動裝置有效
| 申請號: | 201820349599.3 | 申請日: | 2018-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN208201119U | 公開(公告)日: | 2018-12-07 |
| 發明(設計)人: | 周玉燕;林培英;黃洪福;朱佰喜 | 申請(專利權)人: | 深圳市志橙半導體材料有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458 |
| 代理公司: | 廣州市天河廬陽專利事務所(普通合伙) 44244 | 代理人: | 胡濟元 |
| 地址: | 518054 廣東省深圳市南*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 支撐架 支撐裝置 轉盤 化學氣相沉積爐 旋轉驅動裝置 本實用新型 自轉中心 滾動槽 薄膜 轉動 轉盤驅動機構 自轉驅動機構 公轉中心 基體表面 驅動轉盤 支撐基體 轉動結構 轉動中心 支撐 沉積 擋塊 滾球 甩出 驅動 | ||
1.一種化學氣相沉積爐的基體支撐裝置,其特征在于,包括支撐架、若干個沿著圓周方向設在支撐架上的滾動槽以及設在每個滾動槽中用于支撐基體的滾球,所述支撐架上設有用于限制基體離心甩出的擋塊。
2.根據權利要求1所述的化學氣相沉積爐的基體支撐裝置,其特征在于,所述支撐架包括支撐塊和位于支撐塊下方的連接板,所述滾動槽設置在支撐塊的頂端,所述擋塊固定連接在支撐塊上遠離基體的一端。
3.根據權利要求2所述的化學氣相沉積爐的基體支撐裝置,其特征在于,所述支撐塊為三個,且沿著圓周方向等距排布。
4.根據權利要求1或3所述的化學氣相沉積爐的基體支撐裝置,其特征在于,所述擋塊中與基體邊緣接觸的部位為圓弧面。
5.根據權利要求4所述的化學氣相沉積爐的基體支撐裝置,其特征在于,所述擋塊上位于圓弧面兩側設有與圓弧面相連的傾斜面。
6.根據權利要求5所述的化學氣相沉積爐的基體支撐裝置,其特征在于,所述傾斜面與圓弧面相切。
7.根據權利要求2所述的化學氣相沉積爐的基體支撐裝置,其特征在于,所述連接板的一端延伸到支撐塊的下方,另一端固定在自轉驅動機構上;所述連接板上設有將支撐塊固定在連接板上的鎖緊組件。
8.根據權利要求7所述的化學氣相沉積爐的基體支撐裝置,其特征在于,所述鎖緊組件包括位于連接板兩側的呈“L”形結構的鎖緊塊和固定連接桿,所述鎖緊塊包括第一鎖緊塊和第二鎖緊塊,所述第一鎖緊塊設置在連接板靠近支撐塊的一側,所述第二鎖緊塊設置在連接板的另一側;所述第一鎖緊塊和第二鎖緊塊均包括水平部和豎直部,所述第一鎖緊塊的水平部位于連接板的下方,所述第二鎖緊塊的水平部位于連接板的上方;所述固定連接桿的一端穿過第一鎖緊塊的豎直部、支撐塊的下端固定連接到第二鎖緊塊的水平部上。
9.根據權利要求8所述的化學氣相沉積爐的基體支撐裝置,其特征在于,所述第二鎖緊塊的水平部上設有螺紋孔;所述固定連接桿為螺栓結構,其設有外螺紋的一端固定連接到第二鎖緊塊的水平部的螺紋孔中。
10.一種化學氣相沉積爐的基體旋轉驅動裝置,其特征在于,包括轉盤、驅動轉盤轉動的轉盤驅動機構以及若干個權利要求1-9任一項所述的化學氣相沉積爐的基體支撐裝置,其中,所述若干個基體支撐裝置環繞著轉盤的轉動中心設置在轉盤上,且通過轉動連接結構連接在轉盤上,所述轉盤的轉動中心構成公轉中心,支撐架與轉盤之間的轉動結構的中心構成自轉中心;所述轉盤上設有驅動支撐架繞著自轉中心轉動的自轉驅動機構。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





