[實用新型]刷洗裝置

有效

• 申請號: 201820340187.3
• 申請日: 2018-03-13
• 公開（公告）號: CN208390501U
• 公開（公告）日: 2019-01-18
• 發明（設計）人: 趙珳技
• 申請（專利權）人: 凱斯科技股份有限公司
• 主分類號: B08B1/04
• 分類號: B08B1/04;B08B1/02;B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 姜虎;陳英俊

本實用新型涉及刷洗裝置，其包括：清洗刷，其以旋轉狀態接觸基板的表面并進行清洗；扭矩感測部，其感測清洗刷的旋轉扭矩，當扭矩感測部感測到的清洗刷的旋轉扭矩超過預設范圍時，改變清洗刷的旋轉速度，從而可以提高基板的清洗效率，改善清洗效果。

技術領域

本實用新型涉及一種基板處理裝置。更具體地，涉及具備用于控制本體內側表面的溫度的本體發熱部，通過對本體的形狀應用傾斜角，以防止基板處理氣體或揮發性物質冷凝于本體的內側壁，當被冷凝時，能夠使被冷凝的物質沿著本體的內側表面向下流動的基板處理裝置。

背景技術

對顯示裝置中使用的基板或半導體元件制作中所使用的晶片(以下將他們統稱為“基板”)進行處理后，進行去除在處理工序中沾于表面的異物的清洗工序。

圖1及圖2圖示了以往的刷洗裝置9。在以往的刷洗裝置9中，當借助于基板移送部而將基板W移送到一對清洗刷10、10'之間時，一對清洗刷10、10'中的任意一個上下移動10d，清洗刷10、10'以將基板W夾于之間的狀態進行旋轉并清洗基板W的表面。

基板W被進行旋轉的基板支撐部50所旋轉支撐，清洗刷10借助于驅動部40、40'而分別向互不相同的方向旋轉驅動，在向基板W或清洗刷10、10'中任意一個供應脫鹽水和純水的同時清洗基板W。雖然圖中未示出，通過噴嘴向基板W供應清洗液(清洗用化學制劑)和脫鹽水。

另一方面，在刷洗裝置9中，清洗刷10、10'應以接觸基板W表面的狀態旋轉，因此，為了清洗刷10、10'順利實現旋轉，清洗刷10、10'對基板W的負載(接觸壓力)應當可以保持在一定范圍。

可是，在清洗工序中，當清洗刷10、10'以過大的接觸壓力接觸基板W時，存在清洗刷10、10'發生旋轉錯誤的問題。即，當清洗刷10、10'以大于預設值的接觸壓力接觸基板W，或以小于設置值的接觸壓力接觸基板W時，難以準確地控制清洗刷10、10'相對于基板W的旋轉，存在難以準確算出清洗刷10、10'對基板W的清洗量的問題。

另外，就使清洗刷10、10'向相對于基板W接近或隔開的方向10d移動，控制由清洗刷10、10'施加于基板W的負載的方式而言，存在難以細微調節清洗刷10、10'施加于基板W的負載的問題。

進一步而言，就控制由清洗刷10、10'施加于基板W的負載的方式而言，當由清洗刷10、10'施加于基板W的負載控制出錯(接觸壓力變大)時，存在基板W表面圖案損傷或基板W破損的問題，并存在被基板支撐部50支撐的基板W從基板支撐部脫離的問題。

因此，最近進行了旨在有效控制清洗刷對基板的清洗條件、提高基板清洗效率、提高清洗效果的多樣探討，但還遠遠不夠，需要對此進行開發。

實用新型內容

所要解決的技術問題

本實用新型目的在于，提供一種能夠在清洗工序中有效調節清洗刷對基板的清洗條件的刷洗裝置。

特別是本實用新型目的在于，可以根據清洗刷的旋轉扭矩，調節清洗刷的旋轉速度。

另外，本實用新型目的在于，可以通過準確控制清洗刷的旋轉，在緩解影響基板破損的負擔的范圍內，以既不過大也不過小的適宜清洗量，控制清洗工序，確保清洗的可靠性。

另外，本實用新型目的在于，可以提高基板的清洗效率，提高清洗效果。

另外，本實用新型目的在于，可以提高穩定性及可靠性。

技術方案

為了達成所述本實用新型目的，本實用新型提供一種刷洗裝置，包括以旋轉狀態接觸基板表面的清洗刷以及感測清洗刷的旋轉扭矩的扭矩感測部，當扭矩感測部感測到的清洗刷的旋轉扭矩超出預設范圍時，改變清洗刷的旋轉速度。