[實用新型]一種晶體硅雙面太陽電池結構有效
| 申請號: | 201820330987.7 | 申請日: | 2018-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN209981254U | 公開(公告)日: | 2020-01-21 |
| 發明(設計)人: | 高超;周浪;黃海賓;袁吉仁;岳之浩 | 申請(專利權)人: | 南昌大學 |
| 主分類號: | H01L31/068 | 分類號: | H01L31/068 |
| 代理公司: | 36115 南昌新天下專利商標代理有限公司 | 代理人: | 施秀瑾 |
| 地址: | 330031 江西省*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基底 金屬柵線 鈍化 晶體硅太陽電池 透明導電氧化物 導電區域 鈍化層 發射極 光區域 重摻雜 雙面太陽電池 本實用新型 本征非晶硅 短路電流 發電能力 發射極面 減反射層 開路電壓 區域交叉 不重疊 電場面 晶體硅 覆蓋 | ||
一種晶體硅雙面太陽電池結構,以n型晶體硅片作為基底,其發射極面分為發射極?導電區域和鈍化?進光區域:發射極?導電區域由基底向外依次由鈍化層、重摻雜p型非晶硅層、金屬柵線I構成,鈍化?進光區域由基底向外依次由TiO2I、鈍化減反射層I構成,這兩個區域交叉分布且不重疊背電場面由基底向外依次為本征非晶硅鈍化層II或TiO2II、重摻雜n型非晶硅層、透明導電氧化物TCO層、金屬柵線II,其中,金屬柵線II部分覆蓋透明導電氧化物TCO層。本實用新型在保持晶體硅太陽電池雙面進光的特性前提下,同時獲得高開路電壓和高短路電流的特性,最大程度的提高晶體硅太陽電池的發電能力。
技術領域
本實用新型屬于太陽電池和半導體器件領域。涉及太陽電池的制備技術。
背景技術
對于地面用太陽電池,雙面進光的結構實際發電量高于同等標稱功率的單面進光太陽電池的認識已經被行業普遍接受。目前主流的雙面進光太陽電池均是以n型晶體硅片為基底的。一種是基于pn同質結結構的n-PERT結構,特點是短路電流大,開路電壓低;另一類是以基于pn異質結結構的,以HIT結構為代表,特點是短路電流小,開路電壓高。如何提高前者的開路電壓和提高后者的短路電流一直是業內的難點,也是努力的方向。如能結合二者的特點,發明一種新的結構,同時獲得高短路電流、高開路電壓的優點,有望進一步提高雙面晶體硅太陽電池的性能。南昌大學以前的一項發明是在此方向上的一個進步(中國發明專利,No. 201510776929.8),其結構稱為HAC-D結構,意思是該結構結合了HAC(heterojunction of amorphous silicon and crystalline silicon)異質結和擴散制備的同質結( Diffused homojunction of crystalline silicon))。相比于HIT結構可獲得更高的短路電流,并可保證HIT結構高開路電壓的特點。但該結構仍有進步空間,本實用新型就是對HAC-D結構的進一步改進。
實用新型內容
本實用新型的主要目的是提出一種晶體硅雙面太陽電池結構,結合pn同質結高短路電流和pn異質結高開路電壓的優點,合理配置器件構成,以進一步提高晶體硅雙面太陽電池的發電效率,減少貴重原材料的消耗。
本實用新型是通過以下技術方案實現的。
本實用新型所述的一種晶體硅雙面太陽電池結構,以n型晶體硅片(6)作為基底,其發射極面分為發射極-導電區域和鈍化-進光區域:發射極-導電區域由基底向外依次由本征非晶硅鈍化層(3)、重摻雜p型非晶硅層(2)、金屬柵線I(1)構成,鈍化-進光區域由基底向外依次由TiO2I(5)、鈍化減反射層I(4)構成。這兩個區域交叉分布且不重疊。
為提高金屬柵線I(1)與重摻雜p型非晶硅層(2)之間的接觸導電性,優選在二者之間設有一過渡TCO層。
本實用新型所述的鈍化減反射層I(4)優選氮化硅層。
本實用新型所述的發射極與TiO2I(5)之間優選設有一絕緣層。
進一步地,為提高器件的性能,所述的TiO2I(5)的厚度優選1-300nm。
所述的一種晶體硅雙面太陽電池結構背電場面結構為:由基底向外依次為本征非晶硅鈍化層II或者TiO2鈍化層II(7)、重摻雜n型非晶硅層(8)、透明導電氧化物TCO層(9)、金屬柵線II(10),其中,金屬柵線II(10)部分覆蓋透明導電氧化物TCO層(9)。
進一步地,為提高器件的性能,本實用新型所述的n型晶體硅片(6)可以雙面制絨,以進一步提高太陽電池短路電流。
進一步地,n型晶體硅片(6)的雙面的制絨情況可以不同,一面采用較小尺寸金字塔結構的絨面,另外一面采用較大尺寸的金字塔絨面或者無金字塔的拋光結構。
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H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





