[實用新型]自加熱制品/材料的生產系統

有效

• 申請號: 201820321634.0
• 申請日: 2018-03-09
• 公開（公告）號: CN208151476U
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發明（設計）人: 張國禎
• 申請（專利權）人: 無錫博碩珈睿科技有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/02;C23C16/46;C23C16/458
• 代理公司: 北京一格知識產權代理事務所(普通合伙) 11316
• 代理人: 趙俊宏

1.自加熱制品/材料的生產系統，其特征在于，包括基底移送裝置(1)、納米導線鋪設裝置(2)、烘干裝置(3)和ALD沉積裝置(4)，納米導線鋪設裝置包括納米導線分散液出液裝置(201)和納米導線分散液分散器(202)，烘干裝置包括烘干器，由烘干器去除基底上的納米導線分散液的液體， ALD沉積裝置包括沉積腔和噴頭，噴頭設置在沉積腔內，基底在沉積腔內由噴頭進行沉積，由基底移送裝置按照設定的工藝將基底傳送給納米導線鋪設裝置、烘干裝置、原子層沉積裝置。

2.如權利要求1所述的自加熱制品/材料的生產系統，所述納米導線分散液出液裝置為溶液滴液器，所述溶液滴液器包括滴液頭，滴液頭上設置有容腔和出液孔，滴液頭位于基底上方。

3.如權利要求1所述的自加熱制品/材料的生產系統，其特征在于：還包括納米導線焊接器，所述納米導線焊接器為光照射器。

4.如權利要求3所述的自加熱制品/材料的生產系統，其特征在于：所述的光照射器由紫外燈管陣列及紫外燈管陳列固定裝置組成。

5.如權利要求1-4各項之一所述的自加熱制品/材料的生產系統，其特征在于：所述基底移送裝置為帶傳送裝置，所述納米導線分散液出液裝置、納米導線分散液分散器、烘干器、沉積腔和噴頭均設置在傳送帶上方。

6.如權利要求1-4各項之一所述的自加熱制品/材料的生產系統，其特征在于，所述基底移送裝置為收卷放卷裝置，收卷放卷裝置包括放卷軸和收卷軸，收卷軸和放卷軸至少一個為主動軸，柔性基底成卷設置在放卷軸上，頭端連接收卷軸，在收卷軸和放卷軸間設置有張力輥；納米導線分散液出液裝置、納米導線分散液分散器、沉積腔和噴頭沿柔性基底的傳送方向設置、位于收卷軸和放卷軸間、位于基底上方。

7.如權利要求5所述的自加熱制品/材料的生產系統，其特征在于，所述沉積裝置設置在納米導線鋪設裝置前或設置在烘干裝置之后。

8.如權利要求1所述的自加熱制品/材料的生產系統，其特征在于，所述納米導線分散溶液為螺旋輥，在螺旋輥的表面沿軸的長度方向設置螺旋凹槽。

9.如權利要求1所述的自加熱制品/材料的生產系統，其特征在于，還包括熱壓機，所述熱壓機設置有熱壓頭，所述熱壓頭的工作表面與被熱壓的基底的沉積表面形狀大小相匹配。