[實用新型]反應腔室部件結構及反應腔室有效
| 申請號： | 201820317132.0 | 申請日： | 2018-03-08 |
| 公開（公告）號： | CN208580713U | 公開（公告）日： | 2019-03-05 |
| 發明（設計）人： | 李一成;彭宇霖;曹永友 | 申請（專利權）人： | 北京北方華創微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;C25D11/08;C25D11/10 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;張天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反應腔室部件 本實用新型 部件本體 反應腔室 氧化膜層 鋁合金材料 使用壽命 | ||
【權利要求書】：
1.一種反應腔室部件結構，其特征在于，包括部件本體和氧化膜層，其中：
所述部件本體采用5系鋁合金材料制成；
所述氧化膜層通過部件本體氧化形成。
2.根據權利要求1所述的反應腔室部件結構，其特征在于，
在所述氧化膜層上形成有陶瓷層。
3.根據權利要求2所述的反應腔室部件結構，其特征在于，
所述氧化膜層表面具有預設粗糙度。
4.根據權利要求3所述的反應腔室部件結構，其特征在于，所述預設粗糙度的范圍在3.2μm～6.3μm。
5.根據權利要求1所述的反應腔室部件結構，其特征在于，所述氧化膜層的厚度范圍在50μm～60μm。
6.根據權利要求2所述的反應腔室部件結構，其特征在于，所述陶瓷層包括：氧化釔或者氧化鋯。
7.根據權利要求2所述的反應腔室部件結構，其特征在于，所述陶瓷層的厚度范圍在50μm～200μm。
8.一種反應腔室，其特征在于，包括權利要求1-7任意一項所述的反應腔室部件結構。
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