[實用新型]觸控面板有效
| 申請號: | 201820294129.1 | 申請日: | 2018-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN208077142U | 公開(公告)日: | 2018-11-09 |
| 發明(設計)人: | 李昭松;紀賀勛;方芳;黃振潘;余建賢;陳志民;吳珊瑀 | 申請(專利權)人: | 宸鴻光電科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/042 | 分類號: | G06F3/042 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 王玉雙;李巖 |
| 地址: | 中國臺灣臺北市內湖*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 周邊線路 感光層 負型 基板 觸控感應電極 金屬納米線 觸控面板 接合墊 去除區 周邊區 膜層 層疊設置 電性連接 保留區 顯示區 移除 曝光 | ||
一種觸控面板,包含一基板、層疊設置于該基板上的一負型感光層、一膜層與一金屬納米線層以及一設置于該周邊區上的周邊線路;該基板具有一顯示區與一周邊區;該周邊線路具有一接合墊,該負型感光層經曝光后定義出一去除區與一保留區,位于該去除區的該負型感光層、該膜層與該金屬納米線層被移除而定義出一觸控感應電極并裸露出該接合墊,該觸控感應電極電性連接于該周邊線路。
技術領域
本實用新型是關于一種觸控面板。
背景技術
由于透明導體可同時具有光穿透性與適當的導電性,因而常應用于許多顯示或觸控相關的裝置中。一般而言,透明導體可以是各種金屬氧化物,例如氧化銦錫(Indium TinOxide,ITO)、氧化銦鋅(Indium Zinc Oxide,IZO)、氧化鎘錫(Cadmium Tin Oxide,CTO)或摻鋁氧化鋅(Aluminum-doped Zinc Oxide,AZO)。金屬氧化物薄膜可通過物理氣象沉積法或化學氣象沉積法而形成,并通過雷射工藝而形成適當圖案。然而,這些金屬氧化物薄膜的制作方法可能面臨高昂的成本、復雜的工藝以及低良率的問題。在部份情況下,經圖案化的金屬氧化物薄膜也可能有容易被觀察到的問題。因此,現今發展出了多種透明導體,例如利用納米線等材料所制作的透明導體。
然而利用納米線制作觸控電極,納米線與周邊區的金屬引線在工藝上及結構上都有許多待解決的問題,例如傳統工藝將納米線涂布在顯示區及周邊區,并覆蓋周邊區的金屬引線,之后利用蝕刻液將納米線進行圖案化,以在顯示區制作出觸控感應電極,并且蝕刻納米線以在金屬引線上裸露出焊接墊,以與外部電路板進行連接。上述工藝所采用的蝕刻液大多為強酸性,故會導致金屬引線受到蝕刻液的作用,使產品可靠度下降;另外,蝕刻液的殘留問題也需要額外的清潔過程方能克服。
再一方面,利用納米線制作觸控感應電極的工藝中,通常會需要在納米在線成形外涂層(overcoat),以保護納米線并將納米線固著于基板上,而上述工藝所采用的蝕刻液僅能移除納米線,故進行蝕刻工藝后,外涂層會殘留下來,殘留的外涂層的厚度會在接觸阻抗與電極保護性之間形成兩難沖突(trade off)。具體而言,若考慮電極的保護性,殘留的外涂層的厚度會盡可能的加厚,但在經過蝕刻后,焊接墊上殘留外涂層的厚度過厚(例如大于20nm),將造成焊接墊與外部電路板之間的接觸阻抗過大,進而導致線路在傳遞信號時產生耗損或失真,也就是說,過厚的殘留外涂層夾設在焊接墊與外部電路板之間,會造成產品在電性表現的問題。反之,若考慮接觸阻抗,殘留的外涂層的厚度會盡可能的減薄,但在經過蝕刻后,形成觸控感應電極的納米在線所殘留外涂層的厚度太薄,將無法提供納米線有效的保護,也就是說,過薄的殘留外涂層會造成產品的耐用性不足的問題。
因此在利用納米線制作觸控感應電極的工藝上、電極結構上必須依照材料特性重新設計,使產品達到較佳的表現。
實用新型內容
本實用新型的部分實施方式,可提高顯示區的觸控感應電極的耐用性,并藉由接合墊與外部電路板的電極墊之間的直接接觸結構,同時形成一低阻抗的導電線路。此外,本實用新型的部分實施方式中,提出了觸控電極的直接圖案化方法,因而產生不同于以往的觸控面板結構。
本實用新型的部分實施方式提出一種觸控面板的直接圖案化方法,包括:提供一基板,該基板具有一顯示區與一周邊區,其中一周邊線路設置在該周邊區,該周邊線路具有一接合墊;設置由金屬納米線所組成的一金屬納米線層于該顯示區與該周邊區;設置一半固化的膜層于該金屬納米線層上;設置一負型感光層于該半固化的膜層上;進行一黃光微影步驟,包括:將該負型感光層進行曝光以定義出一去除區與一保留區;以及使用顯影液將位于該去除區的該負型感光層、該膜層與該金屬納米線層去除,以制作出設置于該顯示區上的一觸控感應電極并裸露出設置于該周邊區的該接合墊,該觸控感應電極電性連接于該周邊線路,其中該觸控感應電極是由該膜層與該金屬納米線層所組成;其中在該保留區中,該負型感光層覆蓋于該膜層與該金屬納米線層之上;以及將該膜層進行一固化步驟。
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