[實(shí)用新型]一種平整機(jī)對(duì)中設(shè)備吹掃裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820287237.6
• 申請(qǐng)日: 2018-02-28
• 公開（公告）號(hào): CN208019160U
• 公開（公告）日: 2018-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張明生;崔金棟;彭振偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 首鋼京唐鋼鐵聯(lián)合有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): B21B45/06
• 分類號(hào): B21B45/06
• 代理公司: 北京華沛德權(quán)律師事務(wù)所 11302
• 代理人: 馬苗苗

本實(shí)用新型涉及一種平整機(jī)對(duì)中設(shè)備吹掃裝置，包括：框架、供氣部件及吹掃管；框架的內(nèi)部設(shè)置有對(duì)中設(shè)備；對(duì)中設(shè)備包括設(shè)置有檢測燈管的對(duì)中檢測裝置；框架的一側(cè)開設(shè)吹掃孔；供氣部件用于提供吹掃氣體；供氣部件的輸出端連接吹掃管，吹掃管的出口端通過吹掃孔伸入框架內(nèi)部。該平整機(jī)對(duì)中設(shè)備吹掃裝置能有效清理對(duì)中設(shè)備上覆蓋的異物，確保對(duì)中檢測裝置檢測準(zhǔn)確度，避免平整區(qū)帶鋼跑偏事故。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及熱軋技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種平整機(jī)對(duì)中設(shè)備吹掃裝置。

背景技術(shù)

由于鋼卷在熱軋平整機(jī)入口開卷過程中，會(huì)大量剝落氧化鐵皮，造成平整機(jī)組入口CPC(中心位置糾偏系統(tǒng))、出口EPC(邊部位置糾偏系統(tǒng))經(jīng)常被氧化鐵皮覆蓋，進(jìn)而造成其對(duì)中檢測異常，使高速平整軋制過程中的帶鋼出現(xiàn)跑偏現(xiàn)場，造成帶鋼軋裂，鋼卷成為協(xié)議品甚至廢品。

為了解決鋼卷開卷過程中剝落的氧化鐵皮造成平整機(jī)對(duì)中異常的問題，希望找到一種能夠長期有效，方便穩(wěn)定的控制措施。

現(xiàn)有技術(shù)中還沒有相關(guān)裝置避免剝落的氧化鐵皮對(duì)平整機(jī)對(duì)中的影響。

實(shí)用新型內(nèi)容

本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N平整機(jī)對(duì)中設(shè)備吹掃裝置，解決了或部分解決了現(xiàn)有技術(shù)中無法避免剝落的氧化鐵皮對(duì)平整機(jī)對(duì)中影響的技術(shù)問題，實(shí)現(xiàn)了有效清理對(duì)中設(shè)備上覆蓋的異物，確保對(duì)中檢測裝置檢測準(zhǔn)確度，避免平整區(qū)帶鋼跑偏事故的技術(shù)效果。

本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N平整機(jī)對(duì)中設(shè)備吹掃裝置，包括：

框架，內(nèi)部設(shè)置有對(duì)中設(shè)備；所述對(duì)中設(shè)備包括設(shè)置有檢測燈管的對(duì)中檢測裝置；所述框架至少有一側(cè)開設(shè)吹掃孔；

供氣部件，用于提供吹掃氣體；所述供氣部件的輸出端連接吹掃管，所述吹掃管的出口端通過所述吹掃孔伸入所述框架內(nèi)部。

作為優(yōu)選，所述框架設(shè)置在平整機(jī)的入口位置；

所述對(duì)中檢測裝置設(shè)置在所述平整機(jī)的操作側(cè)及驅(qū)動(dòng)側(cè)的機(jī)械限位位置。

作為優(yōu)選，所述框架的兩側(cè)分別開設(shè)所述吹掃孔；

所述供氣部件的輸出端連接兩根所述吹掃管；

所述吹掃管的出口端通過對(duì)應(yīng)所述吹掃孔伸入所述框架內(nèi)部。

作為優(yōu)選，所述吹掃管的出口端靠近所述檢測燈管設(shè)置。

作為優(yōu)選，所述吹掃管為軟管；

所述吹掃管活動(dòng)設(shè)置在所述框架的所述吹掃孔中。

作為優(yōu)選，所述吹掃管為金屬軟管。

作為優(yōu)選，所述吹掃孔為孔徑3～5mm的圓孔；

所述吹掃氣體的壓力為3～5bar。

作為優(yōu)選，所述吹掃孔為孔徑3mm的圓孔；

所述吹掃氣體的壓力為4bar。

作為優(yōu)選，所述供氣部件為空壓機(jī)；

所述吹掃氣體為壓縮空氣。

作為優(yōu)選，所述供氣部件為氮?dú)馄浚?/p>

所述吹掃氣體為高壓氮?dú)狻?/p>

本申請(qǐng)中提供的一個(gè)或多個(gè)技術(shù)方案，至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn)：