[實用新型]一種采用測量氣體擴散系數的專用擴散裝置

有效

• 申請號: 201820269050.3
• 申請日: 2018-02-26
• 公開（公告）號: CN207832612U
• 公開（公告）日: 2018-09-07
• 發明（設計）人: 陳偉;孫強
• 申請（專利權）人: 青島科技大學
• 主分類號: G01N13/00
• 分類號: G01N13/00
• 代理公司: 北京易光知識產權代理有限公司 11596
• 代理人: 李韻

本實用新型公開了一種采用測量氣體擴散系數的專用擴散裝置，包括金屬管體和主三通閥，所述金屬管體的左端設置有高低密度氣體擴散槽，且高低密度氣體擴散槽的中部安裝有隔離閥門，所述高低密度氣體擴散槽的上端連接有變徑拐角，且變徑拐角的右側安置有第一密封閥門，所述第一密封閥門的右側安裝有低密度氣體穩壓緩沖容器殼體。該采用測量氣體擴散系數的專用擴散裝置設置有隔離閥門與高低密度氣體擴散槽，通過為軟性密封材料球閥密封方式的隔離閥門可以很好的提高隔離閥門的密封性，而且通過隔離閥門可以很好的控制材質為石英玻璃的高低密度氣體擴散槽的上端部和下端部進行連通或隔絕，從而方便隔絕兩種測量氣體，便于進行測量。

技術領域

本實用新型涉及傳熱傳質實驗測試裝置技術領域，具體為一種采用測量氣體擴散系數的專用擴散裝置。

背景技術

擴散現象是一種化工工程設備中普遍存在的一種物質輸運現象，擴散系數則是描述擴散現象進行快慢程度的物理量，該參數是化工工藝設備設計和化工工藝流程優化等工作必不可少的基礎物性，激光全息干涉技術是測量透光流體擴散系數的一種熱點方法。

市場上的測量多為傳統的毛細管法、膜池法，該方法的測量速度慢和測量效率低；或為恒通量法和Taylor分散法，該方法的測試準確性差；而同位素法和核磁法，該方法對技術設備要求要低較高的問題，為此，我們提出一種結構簡便設備要求低、效率準確性高速度快的采用測量氣體擴散系數的專用擴散裝置。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種采用測量氣體擴散系數的專用擴散裝置，以解決上述背景技術中提出的測量多為傳統的毛細管法、膜池法，該方法的測量速度慢和測量效率低；或為恒通量法和Taylor分散法，該方法的測試準確性差；而同位素法和核磁法，該方法對技術設備要求要低較高的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種采用測量氣體擴散系數的專用擴散裝置，包括金屬管體和主三通閥，所述金屬管體的左端設置有高低密度氣體擴散槽，且高低密度氣體擴散槽的中部安裝有隔離閥門，所述高低密度氣體擴散槽的上端連接有變徑拐角，且變徑拐角的右側安置有第一密封閥門，所述第一密封閥門的右側安裝有低密度氣體穩壓緩沖容器殼體，且低密度氣體穩壓緩沖容器殼體的內側安置有低密度氣體穩壓緩沖容器，所述低密度氣體穩壓緩沖容器殼體的上端固定有吊環螺絲，且低密度氣體穩壓緩沖容器殼體的左右兩外壁均連接有主加固座，所述主加固座上下端的內部貫穿設置有螺孔，且主加固座中端的內部安置有內管槽，所述主加固座的外端口設置有橡膠圈，且主加固座的下端連接有次加固座，所述主三通閥的右側安裝有第三密封閥門，且主三通閥位于低密度氣體穩壓緩沖容器殼體的右方，所述第三密封閥門的右端設置有低密度氣體充裝接口，所述主三通閥的下方安裝有第五密封閥門，且第五密封閥門的下方固定有次三通閥，所述次三通閥的右方安裝有第四密封閥門，且第四密封閥門的右側設置有高密度氣體充裝接口，所述次三通閥的左側安裝有高密度氣體穩壓緩沖容器，且高密度氣體穩壓緩沖容器的左端固定有第二密封閥門。

優選的，所述隔離閥門與高低密度氣體擴散槽為連通結構，且隔離閥門的水平中軸線與高低密度氣體擴散槽的水平中軸線相重合。

優選的，所述第一密封閥門和第二密封閥門關于金屬管體的中心對稱，且第三密封閥門和第四密封閥門關于金屬管體的中心對稱。

優選的，所述低密度氣體穩壓緩沖容器和高密度氣體穩壓緩沖容器的大小形狀相同，且二者的豎直中軸線重合，而且二者通過第五密封閥門構成連通結構。

優選的，所述主加固座通過螺孔和次加固座構成固定連接，而且主加固座和次加固座均與低密度氣體穩壓緩沖容器殼體構成固定連接。

優選的，所述內管槽為半圓形結構，且內管槽設置有兩個，而且內管槽與橡膠圈的形狀相同。