[實用新型]石英晶片的清洗裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820266187.3
• 申請日: 2018-02-23
• 公開（公告）號: CN208321481U
• 公開（公告）日: 2019-01-04
• 發(fā)明（設計）人: 周朱華;王祖勇
• 申請（專利權(quán)）人: 嘉興晶控電子有限公司
• 主分類號: B08B3/10
• 分類號: B08B3/10;F26B21/00
• 代理公司: 嘉興啟帆專利代理事務所(普通合伙) 33253
• 代理人: 李伊飏

本實用新型涉及石英晶片的清洗裝置，包括底座，底座上設置有凹槽，凹槽內(nèi)活動設置有清洗筒，清洗筒側(cè)面底部設置有排水管，清洗筒底部與凹槽之間設置有若干滾珠，清洗筒連接有位于底座底部的驅(qū)動電機，底座上設置有支架，支架底部設置有伸縮桿，伸縮桿底部設置有伸入清洗筒內(nèi)的固定桿，固定桿上固定有若干層連接桿，連接桿固定有網(wǎng)狀清洗盒，支架頂部設置有熱風機，熱風機連接有若干伸入清洗筒內(nèi)的出氣管，出氣管上設置有與清洗盒一一對應的噴氣頭；本實用新型避免清洗過程中發(fā)生磕碰損傷，同時保證晶片清洗徹底，網(wǎng)狀的清洗盒利于晶片瀝水，清洗盒與噴氣頭一一對應，使得每個清洗盒內(nèi)的晶片充分干燥。

技術(shù)領域

本實用新型涉及晶片生產(chǎn)設備領域，具體是石英晶片的清洗裝置。

背景技術(shù)

在晶片加工工廠里，腐蝕工序加工完成后，通常需要清洗，再用無水乙醇脫水，然后烘干。清洗時受到晶片疊放的影響，會造成晶片清洗不徹底，帶來水印、臟污等問題，同時影響干燥，造成晶片干燥不徹底等問題。

實用新型內(nèi)容

針對上述不足，本實用新型的目的在于，提供避免晶片堆疊，清洗過程中發(fā)生磕碰損傷，同時保證晶片清洗徹底，晶片充分干燥的石英晶片的清洗裝置。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供以下技術(shù)方案：石英晶片的清洗裝置，包括底座，底座上設置有凹槽，凹槽內(nèi)活動設置有清洗筒，清洗筒側(cè)面底部設置有排水管，清洗筒底部與凹槽之間設置有若干滾珠，清洗筒連接有位于底座底部的驅(qū)動電機，底座上設置有支架，支架底部設置有伸縮桿，伸縮桿底部設置有伸入清洗筒內(nèi)的固定桿，固定桿上固定有若干層連接桿，連接桿固定有網(wǎng)狀清洗盒，支架頂部設置有熱風機，熱風機連接有若干伸入清洗筒內(nèi)的出氣管，出氣管上設置有與清洗盒一一對應的噴氣頭。

進一步優(yōu)化的方案，所述的伸縮桿為電動伸縮桿。

再進一步優(yōu)化的方案，若干所述的清洗盒上設置有盒蓋。

本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的有益效果是：本實用新型通過單個清洗盒內(nèi)對應放置一個晶片，避免晶片堆疊，清洗過程中發(fā)生磕碰損傷，同時保證晶片清洗徹底，通過驅(qū)動電機帶動清洗筒旋轉(zhuǎn)，清洗液對清洗盒內(nèi)的晶片進行沖刷清洗，清洗完畢后，通過排水管排出清洗液，網(wǎng)狀的清洗盒利于晶片瀝水，熱風機產(chǎn)生熱風，清洗盒與噴氣頭一一對應，使得每個清洗盒內(nèi)的晶片充分干燥。

附圖說明

圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為清洗盒與固定桿的連接示意圖。

圖中標號為：1-底座、2-凹槽、3-清洗筒、4-排水管、5-滾珠、6-驅(qū)動電機、7-支架、8-伸縮桿、9-固定桿、10-連接桿、11-清洗盒、12-熱風機、13-出氣管、14-噴氣頭、15-盒蓋。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。

在本實用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本實用新型，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。