[實用新型]一種基板、掩膜版、顯示面板及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820263209.0 | 申請日: | 2018-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN207992626U | 公開(公告)日: | 2018-10-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王雄偉;趙寶杰;李堅;王麗;惠翔;趙言;麻清琳;馬春紅 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京風(fēng)雅頌專利代理有限公司 11403 | 代理人: | 朱親林 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 彩色光阻層 顯示區(qū) 基板 非顯示區(qū) 襯底基板 顯示面板 顯示裝置 剝離 色光 掩膜版 連帶 顯影 削弱 阻層 沖洗 本實用新型 產(chǎn)品品質(zhì) 斷開 減小 脫模 申請 保證 | ||
本實用新型公開了一種基板、掩膜版、顯示面板及顯示裝置,所述基板包括:襯底基板以及設(shè)置于襯底基板上的彩色光阻層;基板具有顯示區(qū)和非顯示區(qū);其中,非顯示區(qū)中的彩色光阻層設(shè)置有削弱單元,用于削弱或斷開非顯示區(qū)中遠(yuǎn)離顯示區(qū)一端的彩色光阻層與顯示區(qū)中的彩色光阻層的連接。上述基板通過設(shè)置削弱單元,當(dāng)基板在顯影沖洗過程中即使非顯示區(qū)中的彩色光阻層被剝離起來,顯示區(qū)中的彩色光阻層也不會被連帶一起剝離,能夠保證顯示區(qū)中彩色光阻層的安全可靠。因此,本申請能夠避免顯示區(qū)的彩色光阻層在顯影沖洗過程中被非顯示區(qū)中彩色光阻層連帶剝離,進(jìn)而減小顯示區(qū)彩色光阻層脫模的風(fēng)險,提高產(chǎn)品品質(zhì)。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及液晶顯示相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域,特別是指一種基板、掩膜版、顯示面板及顯示裝置。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有技術(shù)中,參照圖1和圖2所示,分別為現(xiàn)有技術(shù)中彩膜基板的剖視圖和俯視圖;由圖可知,所述彩膜基板中包括顯示區(qū)12和非顯示區(qū)11,且處于襯底基板1上的彩色光阻層3同時覆蓋到顯示區(qū)12和非顯示區(qū)11;也即非顯示區(qū)11中的彩色光阻層(Dummy RGB)為顯示區(qū)12中的RGB Pattern條的延伸,Dummy RGB的完整性直接影響AA(顯示區(qū))RGB的完整性。由于Dummy RGB區(qū)存在Pattern條斷面,所以當(dāng)顯影沖洗力或Air Knife吹干力作用在Pattern斷面方向時,Pattern條斷面受力比較集中,受侵蝕比較徹底,容易導(dǎo)致Dummy RGB被剝起,造成Dummy Pattern脫膜和缺失,基于Dummy Pattern與AA Pattern為一體結(jié)構(gòu),容易連帶AA Pattern一同剝起,造成AA(顯示區(qū))區(qū)脫膜問題,影響產(chǎn)品顯示。
因此,在實現(xiàn)本申請的過程中,發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)至少存在以下缺陷:當(dāng)前的基板中彩色光阻層連貫一體的結(jié)構(gòu)容易由于顯影沖洗過程導(dǎo)致顯示區(qū)彩色光阻層脫模、剝離的問題,影響產(chǎn)品質(zhì)量。
實用新型內(nèi)容
有鑒于此,本實用新型的目的在于提出一種基板、掩膜版、顯示面板及顯示裝置,能夠避免顯示區(qū)的彩色光阻層在顯影沖洗過程中被非顯示區(qū)中彩色光阻層連帶剝離,進(jìn)而減小顯示區(qū)彩色光阻層脫模的風(fēng)險,提高產(chǎn)品品質(zhì)。
基于上述目的,在本申請的第一方面,提供了一種基板,包括:襯底基板以及設(shè)置于所述襯底基板上的彩色光阻層;所述基板具有顯示區(qū)和非顯示區(qū);其中,所述非顯示區(qū)中的彩色光阻層設(shè)置有削弱單元,用于削弱或斷開所述非顯示區(qū)中遠(yuǎn)離所述顯示區(qū)一端的彩色光阻層與所述顯示區(qū)中的彩色光阻層的連接。
可選的,所述削弱單元為隔斷結(jié)構(gòu)。
可選的,所述隔斷結(jié)構(gòu)的寬度小于預(yù)設(shè)的隔斷寬度閾值。
可選的,所述隔斷結(jié)構(gòu)沿直線延伸;所述顯示區(qū)和所述非顯示區(qū)之間的連線方向為橫向方向;所述隔斷結(jié)構(gòu)的延伸方向在所述彩色光阻層對應(yīng)的平面內(nèi)與所述橫向方向形成小于90度的夾角。
可選的,所述顯示區(qū)中的彩色光阻層與所述隔斷結(jié)構(gòu)具有第一接觸面;所述第一接觸面與所述橫向方向形成小于90度的夾角。
可選的,所述隔斷結(jié)構(gòu)與彩色光阻層的接觸面設(shè)置為曲面。
可選的,靠近所述顯示區(qū)的彩色光阻層與所述隔斷結(jié)構(gòu)對應(yīng)的接觸面設(shè)置為曲面。
可選的,所述曲面對應(yīng)的截面為拋物線,且所述拋物線的開口朝向顯示區(qū)。
可選的,所述削弱單元沿橫向方向設(shè)置有多個。
在本申請的第二方面,提供了一種掩膜版,所述掩膜版用于制備上述任一項所述基板對應(yīng)的彩色光阻層;若采用負(fù)性光刻膠,所述掩膜版對應(yīng)所述削弱單元的位置設(shè)置為不透光區(qū)域;若采用正性光刻膠,所述掩膜版對應(yīng)削弱單元的位置設(shè)置為透光區(qū)域。
可選的,所述掩膜版中對應(yīng)所述削弱單元的不透光區(qū)域或者透光區(qū)域的寬度大于3um。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





