[實(shí)用新型]氣密測(cè)試機(jī)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820252511.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-02-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208076098U | 公開(公告)日: | 2018-11-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林孝良;卓文彥;卓怡宏;黃翊瑋;詹德瑋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州向隆塑膠有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01M3/04 | 分類號(hào): | G01M3/04 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務(wù)所 31283 | 代理人: | 胡美強(qiáng);孫靜 |
| 地址: | 215151 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 穿孔 膠臺(tái) 偵測(cè)裝置 上蓋體 承載 座體 測(cè)試空間 氣密測(cè)試 密閉件 排氣孔 注氣腔 氣密 本實(shí)用新型 標(biāo)準(zhǔn)大氣壓 測(cè)試機(jī)構(gòu) 工件放置 快速檢測(cè) 輸出狀態(tài) 蓋合 夾設(shè) 偵測(cè) 治具 連通 測(cè)試 檢測(cè) 覆蓋 | ||
1.一種氣密測(cè)試機(jī)構(gòu),其特征在于,其用于針對(duì)至少一機(jī)殼工件進(jìn)行氣密測(cè)試,所述氣密測(cè)試機(jī)構(gòu)包含:
一上蓋體,所述上蓋體具有一第一密閉件;
一座體,所述座體具有一第二密閉件,且所述座體開設(shè)有至少一穿孔;
至少一承載膠臺(tái),所述承載膠臺(tái)對(duì)應(yīng)所述穿孔設(shè)置于所述座體以用于放置所述機(jī)殼工件,且所述承載膠臺(tái)對(duì)應(yīng)所述穿孔設(shè)有一排氣孔;當(dāng)所述機(jī)殼工件放置于所述承載膠臺(tái)后,所述機(jī)殼工件與所述承載膠臺(tái)夾設(shè)形成覆蓋于所述排氣孔的一測(cè)試空間,當(dāng)所述上蓋體蓋合于所述座體時(shí)形成一注氣腔室;及
一偵測(cè)裝置,所述偵測(cè)裝置與所述穿孔連通,以用于偵測(cè)所述測(cè)試空間的氣流輸出狀態(tài);當(dāng)所述注氣腔室被注入大于一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓的氣體后,所述偵測(cè)裝置用于檢測(cè)所述機(jī)殼工件的氣密能力。
2.如權(quán)利要求1所述的氣密測(cè)試機(jī)構(gòu),其特征在于,所述承載膠臺(tái)具有一凹陷部,且所述排氣孔開設(shè)于所述凹陷部。
3.如權(quán)利要求1所述的氣密測(cè)試機(jī)構(gòu),其特征在于,所述上蓋體具有一壓合面,所述座體具有一承載面,且所述壓合面與所述承載面皆為一平面,當(dāng)所述上蓋體蓋合于所述座體時(shí),所述壓合面與所述承載面緊密貼合,且所述第一密閉件的一側(cè)延伸形成一凸出部,所述第二密閉件的一側(cè)對(duì)應(yīng)所述凸出部形成一凹槽,當(dāng)所述上蓋體蓋合于所述座體時(shí),所述凸出部與所述凹槽相互緊密結(jié)合。
4.如權(quán)利要求1所述的氣密測(cè)試機(jī)構(gòu),其特征在于,所述上蓋體具有一壓合面,所述座體具有一承載面,且所述壓合面與所述承載面皆為一平面,當(dāng)所述上蓋體蓋合于所述座體時(shí),所述壓合面與所述承載面緊密貼合,且所述第一密閉件的一側(cè)凹設(shè)形成一凹槽,所述第二密閉件的一側(cè)對(duì)應(yīng)所述凹槽延伸形成一凸出部,當(dāng)所述上蓋體蓋合于所述座體時(shí),所述凸出部與所述凹槽相互緊密結(jié)合。
5.如權(quán)利要求1所述的氣密測(cè)試機(jī)構(gòu),其特征在于,所述上蓋體具有一壓合面,所述座體具有一承載面,且所述壓合面與所述承載面皆為一傾斜面,當(dāng)所述上蓋體蓋合于所述座體時(shí),所述壓合面與所述承載面緊密貼合,且所述第一密閉件的一側(cè)延伸形成一凸出部,所述第二密閉件的一側(cè)對(duì)應(yīng)所述凸出部形成一凹槽,當(dāng)所述上蓋體蓋合于所述座體時(shí),所述凸出部與所述凹槽相互緊密結(jié)合。
6.如權(quán)利要求1所述的氣密測(cè)試機(jī)構(gòu),其特征在于,所述上蓋體具有一壓合面,所述座體具有一承載面,且所述壓合面與所述承載面皆為一傾斜面,當(dāng)所述上蓋體蓋合于所述座體時(shí),所述壓合面與所述承載面緊密貼合,且所述第一密閉件的一側(cè)凹設(shè)形成一凹槽,所述第二密閉件的一側(cè)對(duì)應(yīng)所述凹槽延伸形成一凸出部,當(dāng)所述上蓋體蓋合于所述座體時(shí),所述凸出部與所述凹槽相互緊密結(jié)合。
7.如權(quán)利要求1所述的氣密測(cè)試機(jī)構(gòu),其特征在于,所述承載膠臺(tái)用于同時(shí)放置多個(gè)所述機(jī)殼工件,并對(duì)應(yīng)所述機(jī)殼工件開設(shè)有多個(gè)所述排氣孔,所述偵測(cè)裝置依時(shí)間順序針對(duì)各所述機(jī)殼工件所對(duì)應(yīng)的所述測(cè)試空間進(jìn)行氣流輸出狀態(tài)偵測(cè)。
8.如權(quán)利要求1所述的氣密測(cè)試機(jī)構(gòu),其特征在于,所述座體設(shè)有多個(gè)所述穿孔與多個(gè)所述承載膠臺(tái),以用于同時(shí)放置多個(gè)所述機(jī)殼工件,且所述偵測(cè)裝置與各所述穿孔相互連通以對(duì)各所述機(jī)殼工件對(duì)應(yīng)的所述測(cè)試空間進(jìn)行氣流輸出狀態(tài)偵測(cè)。
9.如權(quán)利要求1所述的氣密測(cè)試機(jī)構(gòu),其特征在于,所述注氣腔室被注入的氣體壓強(qiáng)介于4~6個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓。
10.如權(quán)利要求1所述的氣密測(cè)試機(jī)構(gòu),其特征在于,所述第一密閉件及所述第二密閉件分別為一膠圈。
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- 專利分類
G01M 機(jī)器或結(jié)構(gòu)部件的靜或動(dòng)平衡的測(cè)試;其他類目中不包括的結(jié)構(gòu)部件或設(shè)備的測(cè)試
G01M3-00 結(jié)構(gòu)部件的流體密封性的測(cè)試
G01M3-02 .應(yīng)用流體或真空
G01M3-38 .應(yīng)用光照
G01M3-40 .應(yīng)用電裝置,例如,觀察放電現(xiàn)象
G01M3-04 ..通過(guò)在漏泄點(diǎn)檢測(cè)流體的出現(xiàn)
G01M3-26 ..通過(guò)測(cè)量流體的增減速率,例如,用壓力響應(yīng)裝置,用流量計(jì)
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