[實(shí)用新型]一種小型真空磁控濺射鍍鏌實(shí)驗(yàn)機(jī)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820252321.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-02-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207845766U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李雙江;董順;曹崇友 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/35 | 分類號(hào): | C23C14/35 |
| 代理公司: | 沈陽(yáng)技聯(lián)專利代理有限公司 21205 | 代理人: | 張志剛 |
| 地址: | 110000 遼*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空室 過(guò)渡倉(cāng) 磁控濺射 小型真空 實(shí)驗(yàn)機(jī) 真空手套箱 磁力傳遞 惰性氣體保護(hù) 機(jī)臺(tái) 本實(shí)用新型 磁控濺射靶 升降樣品臺(tái) 渦輪分子泵 上端法蘭 下端法蘭 有機(jī)械手 真空手套 觀查窗 鍍膜 成功率 支撐 污染 保證 | ||
1.一種小型真空磁控濺射鍍鏌實(shí)驗(yàn)機(jī),其特征在于,所述鍍鏌機(jī)包括真空室、支撐真空室的機(jī)臺(tái);真空室的上端法蘭連接升降樣品臺(tái)總成,下端法蘭連接磁控濺射靶總成;真空室的前端設(shè)有帶觀查窗的門,真空室的后端設(shè)有渦輪分子泵的接口;真空室的左側(cè)設(shè)有一個(gè)磁力傳遞桿,磁力傳遞桿的前端安有機(jī)械手;真空室的右側(cè)設(shè)有一個(gè)過(guò)渡倉(cāng),過(guò)渡倉(cāng)與真空手套箱相連接,過(guò)渡倉(cāng)前端設(shè)有一個(gè)過(guò)渡倉(cāng)門。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種小型真空磁控濺射鍍鏌實(shí)驗(yàn)機(jī),其特征在于,所述真空室的左側(cè)設(shè)有磁力傳遞桿,磁力傳遞桿的前端安有機(jī)械手。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種小型真空磁控濺射鍍鏌實(shí)驗(yàn)機(jī),其特征在于,所述真空室的右側(cè)設(shè)有過(guò)渡倉(cāng),過(guò)渡倉(cāng)與真空手套箱相連接,過(guò)渡倉(cāng)前端設(shè)有一個(gè)過(guò)渡倉(cāng)門。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





