[實用新型]光學膜有效
| 申請號： | 201820225139.X | 申請日： | 2018-02-08 |
| 公開（公告）號： | CN207851338U | 公開（公告）日： | 2018-09-11 |
| 發明（設計）人： | 徐耿;袁流燕;蘇文衛;何海君 | 申請（專利權）人： | 浙江錦輝光電材料有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/04 | 分類號： | G02B5/04;G02B1/11 |
| 代理公司： | 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙) 32260 | 代理人： | 張歡勇 |
| 地址： | 321100 浙江省*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學增益 棱鏡結構 反射光 基材層 本實用新型 光學結構 減反射層 出光面 光學膜 納米級 入光面 折射率 光線透過率 光學結構層 急劇變化 納米量級 光波 光波長 微結構 微米級 反射 | ||
【權利要求書】：
1.一種光學膜，包括基材層，所述基材層一側為入光面，所述基材層另一側為出光面，所述入光面外側設有減反射層，所述出光面外側設有能夠減少反射光并提高光學增益的光學結構層。
2.根據權利要求1所述的光學膜，其特征在于：所述光學結構層包括第一光學結構層及第二光學結構層，所述第一光學結構層及第二光學結構層間隔設置。
3.根據權利要求2所述的光學膜，其特征在于：所述第一光學結構層為棱鏡結構。
4.根據權利要求2所述的光學膜，其特征在于：所述第二光學結構層為多個延伸的棱鏡結構。
5.根據權利要求2或3所述的光學膜，其特征在于：所述第一光學結構層的頂峰高度范圍為1nm<H≤100μm。
6.根據權利要求2或4所述的光學膜，其特征在于：所述第二光學結構層的頂峰高度范圍為10nm≤h≤30nm。
7.根據權利要求2或3所述的光學膜，其特征在于：所述第一光學結構層的深寬比為0.3-3。
8.根據權利要求2或4所述的光學膜，其特征在于：所述第二光學結構層的深寬比為0.3-3。
9.根據權利要求1所述的光學膜，其特征在于：所述減反射層為多個延伸的透鏡結構，所述透鏡結構的頂部高度范圍為1nm≤R≤20nm。
10.根據權利要求1所述的光學膜，其特征在于：所述基材層采用PET、PC或PS等透明材料。
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