[實用新型]用于在基底的表面上形成涂層的裝置

有效

• 申請號: 201820177651.1
• 申請日: 2018-02-01
• 公開（公告）號: CN207944145U
• 公開（公告）日: 2018-10-09
• 發明（設計）人: K·阿西卡拉
• 申請（專利權）人: BENEQ有限公司
• 主分類號: C23C4/12
• 分類號: C23C4/12
• 代理公司: 北京匯知杰知識產權代理事務所(普通合伙) 11587
• 代理人: 吳煥芳;楊勇

本實用新型涉及一種用于在基底的表面上形成涂層的裝置。該裝置包括沉積室(100)以及至少一個霧化器(10)，其中沉積室(100)具有頂壁(101)和從頂壁(101)向下延伸的至少一個側壁(102)以限定出沉積空間(200)。該至少一個側壁(102)包括內側壁表面(103)和設置于至少一個側壁(102)上并橫向于豎直方向延伸的縱向凹槽(110)，該縱向凹槽(110)從內側壁表面朝向沉積室(100)的沉積空間(200)的外部凹入至少一個側壁(102)中，該縱向凹槽(110)具有凹槽底部(120)和從凹槽底部(120)向上延伸的相對的凹槽側壁(122、124)以便形成流動通道。根據本實用新型，該裝置防止凝結到沉積室的側壁上的液體微滴流向待涂覆的基底上。

技術領域

本實用新型涉及一種用于在基底的表面上形成涂層的裝置。

背景技術

在現有技術中，用于在基底的表面上形成涂層的裝置通常為具有沉積室的裝置，其中沉積室包括側壁和位于沉積室的底部上的基底支撐件。側壁包括從側壁的表面朝向沉積室內部延伸的唇緣，使得沿沉積室的側壁流動的液體微滴流到唇緣而不流到沉積室底部的基底。

現有技術的裝置的缺點在于從側壁的表面延伸出的唇緣也收集來自沉積空間的應流向待涂覆的基底的表面的氣溶膠。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供用于在基底的表面上形成涂層的裝置，該裝置防止凝結到沉積室的側壁上的液體微滴流向待涂覆的基底上。

根據本實用新型，提供一種用于在基底的表面上形成涂層的裝置，所述裝置包括：

-沉積室，所述沉積室具有頂壁和從所述頂壁向下延伸的至少一個側壁，所述頂壁和所述至少一個側壁限定出在所述沉積室內的沉積空間，以及

-至少一個霧化器，所述至少一個霧化器用于將液相先驅體霧化成微滴以形成氣溶膠，

其中，所述至少一個側壁包括：

-內側壁表面；

-縱向凹槽，所述縱向凹槽設置于所述至少一個側壁上并且橫向于豎直方向延伸，所述縱向凹槽從所述內側壁表面朝向所述沉積室的所述沉積空間的外部凹入所述至少一個側壁中，所述縱向凹槽具有凹槽底部和從所述凹槽底部向上延伸的相對的凹槽側壁，以便形成流動通道。

本實用新型基于提供用于在基底的表面上形成涂層的裝置的構思，其中該裝置包括具有沉積空間和至少一個側壁的沉積室，上述至少一個側壁包括設置在上述至少一個側壁上并且橫向于豎直方向延伸的縱向凹槽。縱向凹槽從內側壁表面朝向沉積室的沉積空間的外部凹入所述至少一個側壁中。縱向凹槽收集凝結到沉積室的側壁上的液體微滴，從而防止它們流向待涂覆的基底。

根據本實用新型的用于在基底的表面上形成涂層的裝置包括具有頂壁和從頂壁向下延伸的至少一個側壁的沉積室，該頂壁和該至少一個側壁限定出沉積室內的沉積空間。該裝置還包括用于將液相先驅體霧化成微滴以形成氣溶膠的至少一個霧化器。該至少一個側壁包括內側壁表面和設置在該至少一個側壁上并且橫向于豎直方向延伸的縱向凹槽。縱向凹槽從內側壁表面朝向沉積室的沉積空間的外部凹入該至少一個側壁中。縱向凹槽具有凹槽底部和從凹槽底部向上延伸的相對的凹槽側壁以便形成流動通道。

在裝置的一個實施方式中，內側壁表面限定出內壁表面平面，并且縱向凹槽相對于沉積室的沉積空間在水平方向上設置于內壁表面平面的外側。在裝置的另一實施方式中，縱向凹槽在水平方向上設置作為至少一個側壁的從沉積室的沉積空間向外凸出的外凸部。

在裝置的一實施方式中，該至少一個側壁具有延伸至頂壁的上端和遠離頂壁的下端，并且所述縱向凹槽設置于該至少一個側壁的下端或者下端的附近處。