[實(shí)用新型]一種氮化鋁陶瓷基板拋光機(jī)用拋光盤(pán)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820161603.3
• 申請(qǐng)日: 2018-01-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208005486U
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-10-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡振武;王作杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 焦作市吉成磁電有限公司
• 主分類號(hào): B24D7/06
• 分類號(hào): B24D7/06;B24D7/10;B24B29/02
• 代理公司: 焦作市科彤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 41133
• 代理人: 秦貞明

本實(shí)用新型提供一種氮化鋁陶瓷基板拋光機(jī)用拋光盤(pán)，該拋光盤(pán)為圓盤(pán)形，所述拋光盤(pán)包括拋光層、彈性層和底層；所述拋光層上開(kāi)設(shè)有排屑槽，所述排屑槽以所述拋光層的中心為圓心沿著徑向設(shè)置,所述拋光層上摳挖有三個(gè)不同幾何形狀的孔洞，孔洞中通過(guò)粘貼蠟緊密的黏貼內(nèi)嵌有三個(gè)磨塊，孔洞幾何形狀與磨塊幾何形狀互相吻合；所述彈性層由若干個(gè)間隔彈性塊組成；所述底層上開(kāi)設(shè)有空冷通道。本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置的排屑槽可以及時(shí)將研磨產(chǎn)生的廢屑排出，有利于研磨過(guò)程的持續(xù)，也就能夠避免研磨出的廢屑劃傷研磨產(chǎn)品的表面，拋光時(shí)間短、良品高。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于拋光設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體地說(shuō)涉及一種氮化鋁陶瓷基板拋光機(jī)用拋光盤(pán)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中，高亮度耐磨金屬鏡面在加工時(shí)，利用鐵盤(pán)及承載治具的自轉(zhuǎn)的速度及加拋光液方式拋金屬表面，使金屬表面發(fā)亮并拋去表面撞劃傷以及材料紋路，以便精拋后達(dá)到鏡面等級(jí)。在拋光過(guò)程中，拋光盤(pán)的運(yùn)動(dòng)方式多為行星運(yùn)動(dòng)，目前的拋光盤(pán)在自轉(zhuǎn)時(shí)的穩(wěn)定性較差，精拋不容易去除研磨紋路，拋光時(shí)間長(zhǎng)且報(bào)廢高。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種氮化鋁陶瓷基板拋光機(jī)用拋光盤(pán)，以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

一種氮化鋁陶瓷基板拋光機(jī)用拋光盤(pán)，該拋光盤(pán)為圓盤(pán)形，所述拋光盤(pán)包括拋光層、彈性層和底層，所述拋光層與彈性層固定連接，所述彈性層和底層固定連接；所述拋光層上開(kāi)設(shè)有排屑槽，所述排屑槽以所述拋光層的中心為圓心沿著徑向設(shè)置,所述排屑槽深度為0.1-0.15mm，所述拋光層上摳挖有三個(gè)不同幾何形狀的孔洞，孔洞中通過(guò)粘貼蠟緊密的黏貼內(nèi)嵌有三個(gè)磨塊，孔洞幾何形狀與磨塊幾何形狀互相吻合；所述彈性層由若干個(gè)間隔彈性塊組成；所述底層上開(kāi)設(shè)有空冷通道，所述空冷通道的兩端開(kāi)口對(duì)稱設(shè)置在底層側(cè)面，所述空冷通道是以所述底層的中心為圓心的圓環(huán)，所述空冷通道直徑為0.1-0.2mm。

進(jìn)一步的，所述排屑槽至少為4條。

進(jìn)一步的，所述磨塊采用粒徑小于100nm的氮化硅材質(zhì)。

進(jìn)一步的，所述磨塊形狀為梯形、菱形、長(zhǎng)方形、三角形或者圓形的任意一種，三個(gè)磨塊形狀互不相同。

進(jìn)一步的，磨塊上表面與拋光層外表面相平齊。

進(jìn)一步的，所述彈性塊至少為四個(gè)。

有益效果：本實(shí)用新型一種氮化鋁陶瓷基板拋光機(jī)用拋光盤(pán)，通過(guò)設(shè)置的排屑槽可以及時(shí)將研磨產(chǎn)生的廢屑排出，有利于研磨過(guò)程的持續(xù)，也就能夠避免研磨出的廢屑劃傷研磨產(chǎn)品的表面，設(shè)置三個(gè)磨塊，磨塊采用粒徑小于100nm的氮化硅材質(zhì)，精拋容易去除研磨紋路，拋光時(shí)間短、良品高，底層設(shè)置有空冷通道，避免因長(zhǎng)時(shí)間使用溫度增高而導(dǎo)致穩(wěn)定性差。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的側(cè)視圖；

圖2為本實(shí)用新型拋光層俯視圖；

圖3為本實(shí)用新型底層剖視圖；

圖4為本實(shí)用拋光層剖視圖；

圖中：1.拋光層、2.彈性層、3.底層，4.排屑槽、5.磨塊、6.彈性塊、7.空冷通道、8.開(kāi)口、4a.磨塊上表面、1a.拋光層外表面。

具體實(shí)施方式

下面對(duì)照附圖，通過(guò)對(duì)實(shí)施例的描述，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，目的是幫助本領(lǐng)域的技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型的構(gòu)思、技術(shù)方案有更完整、準(zhǔn)確和深入的理解，并有助于其實(shí)施。