[實用新型]基坑內(nèi)的局部暗挖裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820152785.8
• 申請日: 2018-01-29
• 公開（公告）號: CN207863956U
• 公開（公告）日: 2018-09-14
• 發(fā)明（設計）人: 李冰河;陳衛(wèi)林;劉興旺;施祖元;曹國強;陳東
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江省建筑設計研究院
• 主分類號: E21D9/00
• 分類號: E21D9/00;E21D11/10
• 代理公司: 杭州杭誠專利事務所有限公司 33109
• 代理人: 尉偉敏

本實用新型公開了一種基坑內(nèi)的局部暗挖裝置，包括中空并下端開口的圍護體，2個分別設于圍護體外部左右兩側(cè)的導向鋼支架，分別設于2個導向鋼支架上的2組對應的導向孔組，每組導向孔組均包括m個導向孔，m大于1，m個鋼管分別水平穿過m對相對應的導向孔，m個鋼管兩端分別伸出2個導向鋼支架之外。本實用新型具有可有效提供支撐力、安全可靠性高、能有效保護現(xiàn)存建筑物的特點。

技術領域

本實用新型涉及基礎設施施工技術領域，尤其是涉及一種可有效提供支撐力、安全可靠性高、能有效保護現(xiàn)存建筑物的基坑內(nèi)的局部暗挖裝置。

背景技術

隨著中國城市化進程的加速，在城市現(xiàn)有建筑下興建大型地下結(jié)構(gòu)越來越多，目前挖掘使用較多的方法就是明挖法與暗挖法。明挖法是先將底面挖開，在露天情況下修筑襯砌，然后再覆蓋回填的地下工程施工方法，但是明挖法阻斷交通時間較長，噪聲與震動較大。暗挖法是不開挖地面，可以保護地面附著物，采用在地下挖洞的方式施工，由于工程水文地質(zhì)條件的不確定性和施工環(huán)境的復雜性，普通暗挖法在施工過程中，仍存在許多施工風險，且多用于隧道挖掘，基坑內(nèi)的暗挖使用較少。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的發(fā)明目的是為了克服現(xiàn)有技術中的暗挖法風險較高、基坑內(nèi)局部暗挖使用較少的缺點，提供了一種可有效提供支撐力、安全可靠性高、能有效保護現(xiàn)存建筑物的基坑內(nèi)的局部暗挖裝置。

為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用以下技術方案：

一種基坑內(nèi)的局部暗挖裝置，包括中空并下端開口的圍護體，2個分別設于圍護體外部左右兩側(cè)的導向鋼支架，分別設于2個導向鋼支架上的2組對應的導向孔組，每組導向孔組均包括m個導向孔，m大于1，m個鋼管分別水平穿過m對相對應的導向孔，m個鋼管兩端分別伸出2個導向鋼支架之外。

本實用新型圍護體內(nèi)是待保護的墻體，墻體下部是需暗挖的土體，導向鋼支架位于圍護體外，鋼管的中部位于土體中。m個鋼管組合增加了對于土體的支撐力，在鋼管組下方進行土體的挖掘，保護了墻體不受施工影響，也保證了土體挖掘的安全可靠性。

作為優(yōu)選，每個導向鋼支架均包括矩形框架和2個分別設于矩形框架底部左右兩側(cè)的延伸板；矩形框架底部開口，2個延伸板均與矩形框架垂直連接。

作為優(yōu)選，每組導向孔組的m個導向孔均位于對應的矩形框架上部，m個導向孔呈n字形排列。

作為優(yōu)選，每個矩形框架上均設有挖掘輪廓線，挖掘輪廓線位于m個導向孔下部；挖掘輪廓線上設有若干個激光燈，激光燈的燈束方向朝向圍護體的方向，燈束方向與矩形框架底部平行。激光燈將挖掘輪廓線投射到待挖掘土體上，保證了挖掘的準確性。

作為優(yōu)選，每個導向孔周圍均設有注漿孔，注漿孔位于靠近矩形框架內(nèi)邊沿的一側(cè)。注漿就是將能固化的漿液注入巖土地基的裂縫或者空隙中，通過置換、充填、擠壓等方式來改善巖土地基物理力學性質(zhì)的方法，提高承載力。

作為優(yōu)選，每組導向孔組的m個導向孔均等間隔排列。

作為優(yōu)選，導向鋼支架的高度低于圍護體的高度。

因此，本實用新型具有如下有益效果：本實用新型圍護體內(nèi)是待保護的墻體，墻體下部是需暗挖的土體，導向鋼支架位于圍護體外，鋼管的中部位于土體中。m個鋼管組合增加了對于土體的支撐力，并在每個鋼管的下部進行灌漿，將鋼管組周圍的土固化，在鋼管組下方進行土體的挖掘，保護了墻體不受施工影響，也保證了土體挖掘的安全可靠性；根據(jù)需挖掘的長度，設定2個導向鋼支架，進一步增加了鋼管的支撐力，該裝置在基坑內(nèi)局部暗挖中安全性高，準確度高。

附圖說明

圖1是本實用新型的一種結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實用新型的導向鋼支架的一種結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本實用新型的導向孔的一種結(jié)構(gòu)示意圖。