[實用新型]多通道集成濾光片的漫反射光隔離結構有效

申請號：	201820151806.4	申請日：	2018-01-30
公開（公告）號：	CN208125944U	公開（公告）日：	2018-11-20
發明（設計）人：	周東平	申請（專利權）人：	蘇州晶鼎鑫光電科技有限公司
主分類號：	G02B1/10	分類號：	G02B1/10;G02B5/02
代理公司：	暫無信息	代理人：	暫無信息
地址：	215000 江蘇省蘇州市工業園區婁***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	金屬膜層黑鉻集成濾光片多通道噴砂處理本實用新型剩余反射率隔離結構漫反射光消光層光學透過性能工作性能光學薄膜基片表面使用壽命有效實現漫反射氧化物粗糙隔離
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【權利要求書】：

1.一種多通道集成濾光片的漫反射光隔離結構，其特征在于，包括設置在基片表面的噴砂處理面，所述噴砂處理面的分布區域與多通道集成濾光片通道間的空白區域相對應；

黑鉻金屬膜層，所述黑鉻金屬膜層設置在所述噴砂處理面上，以阻止光線通過；

還包括消光層，所述消光層由第一氧化鉻膜層、第一二氧化硅膜層、第二氧化鉻膜層、第二二氧化硅膜層組成，所述第一氧化鉻膜層設置在所述黑鉻金屬膜層上，所述第一二氧化硅膜層設置在所述第一氧化鉻膜層上，所述第二氧化鉻膜層設置在所述第一二氧化硅膜層上，所述第二二氧化硅膜層設置在所述第二氧化鉻膜層上。

2.根據權利要求1所述的一種多通道集成濾光片的漫反射光隔離結構，其特征在于，所述黑鉻金屬膜層的厚度為200-500納米，所述第一氧化鉻膜層的厚度為45-50納米，所述第一二氧化硅膜層的厚度為200-220納米，所述第二氧化鉻膜層的厚度為120-140納米，所述第二二氧化硅膜層的厚度為85-95納米。

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