[實(shí)用新型]研磨裝置及研磨系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820147456.4
• 申請(qǐng)日: 2018-01-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208034439U
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-11-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱松山;高裕弟;孫劍;洪耀;李曉波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 棗莊維信諾電子科技有限公司
• 主分類號(hào): B24B57/00
• 分類號(hào): B24B57/00;B24B37/00
• 代理公司: 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250
• 代理人: 陳博旸

1.一種研磨裝置，其特征在于，包括：

研磨組件(20)；

配液組件(10)，包括配液主管(11)以及與所述配液主管(11)連接的若干配液支管(12)，其中所述若干配液支管(12)與所述研磨組件(20)固定連接并在所述研磨組件(20)上均勻分布。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，所述研磨組件(20)包括研磨件(22)、以及設(shè)置在所述研磨件(22)外壁，用于支承所述研磨件(22)的連接件(21)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨裝置，其特征在于，所述連接件(21)上開(kāi)設(shè)有若干通孔(23)，所述配液支管(12)嵌入所述通孔(23)與所述研磨組件(20)固定連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，所述配液組件(10)包括設(shè)置在所述配液支管(12)靠近所述研磨組件(20)一端端部的噴嘴(13)。

5.一種研磨系統(tǒng)，其特征在于，包括權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的研磨裝置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

槽體(50)，以及設(shè)置在所述槽體(50)上方的固定裝置(40)，所述固定裝置(40)用于固定待研磨件(30)；

第一支路(60)，與所述槽體(50)連接；

所述第一支路(60)包括第一容器(61)，輸送裝置(62)以及第一閥門(63)，所述第一容器(61)通過(guò)所述輸送裝置(62)與所述配液組件(10)連接；所述槽體(50)通過(guò)所述第一閥門(63)與所述第一容器(61)連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的研磨系統(tǒng)，其特征在于，還包括：與所述槽體(50)連接的第二支路(70)；

所述第二支路(70)包括第二容器(71)和第二閥門(72)；所述第二容器(71)通過(guò)第二閥門(72)與所述槽體(50)連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的研磨系統(tǒng)，其特征在于，還包括三通閥(80)；所述槽體(50)通過(guò)所述三通閥(80)分別與所述第一支路(60)和第二支路(70)連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求5至8任一項(xiàng)所述的研磨系統(tǒng)，其特征在于，還包括：驅(qū)動(dòng)裝置，用于驅(qū)動(dòng)所述研磨裝置往返運(yùn)動(dòng)。