[實用新型]基板處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820144307.2
• 申請日: 2018-01-29
• 公開（公告）號: CN207834262U
• 公開（公告）日: 2018-09-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 姜炳州;金東旻
• 申請（專利權(quán)）人: 凱斯科技股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京冠和權(quán)律師事務(wù)所 11399
• 代理人: 朱健;陳國軍

1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括：

腔室，其收容基板并執(zhí)行基板處理工藝；

一個排出線，其連接于所述腔室，將工藝完成流體從所述腔室內(nèi)部排出，

所述排出線包括空氣調(diào)節(jié)器，空氣調(diào)節(jié)器對從所述腔室排出的工藝完成流體的流量和壓力進行調(diào)節(jié)，

氣動調(diào)節(jié)器連接于所述空氣調(diào)節(jié)器，對供給到所述空氣調(diào)節(jié)器的空氣量進行調(diào)節(jié)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括：

流體供給部，其連接于所述腔室，將工藝流體供給到所述腔室內(nèi)部。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括：

壓力感知部，其測定所述腔室內(nèi)部的壓力。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述壓力感知部設(shè)置于所述腔室內(nèi)部。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括：

空氣供給部，其將空氣供給到所述氣動調(diào)節(jié)器。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述氣動調(diào)節(jié)器是電子式氣動調(diào)節(jié)器。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括：

控制部，其連接于所述壓力感知部和所述氣動調(diào)節(jié)器，

所述控制部以在所述壓力感知部測定的所述腔室內(nèi)部的壓力為基礎(chǔ)，計算將要供給到所述空氣調(diào)節(jié)器的空氣量，并傳遞到所述氣動調(diào)節(jié)器，從而對所述排出線的開閉進行控制。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述控制部是壓力調(diào)節(jié)器。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，

在所述排出線還設(shè)置有開閉所述排出線的排出線閥門。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，包括：

所述控制部，其對所述排出線的開閉進行控制，以便在所述腔室內(nèi)部進行基板處理工藝期間，適當?shù)乇３炙銮皇覂?nèi)部的壓力。

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，包括：

所述控制部，其對所述排出線的開閉進行控制，以便在所述腔室內(nèi)部完成基板處理工藝的情況下，直到所述腔室內(nèi)部的壓力成為常壓為止，使得所述腔室內(nèi)部的壓力穩(wěn)定地減壓。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板處理裝置，其特征在于，包括：

所述控制部，其以如下形式進行控制：若所述腔室內(nèi)部壓力成為常壓，則以最大限度地打開所述排出線的形式進行控制，從而所述工藝完成流體從所述腔室內(nèi)部完全排出。