[實(shí)用新型]一種應(yīng)用于玻璃制品的磁控鍍膜生產(chǎn)線

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820138785.2
• 申請日: 2018-01-29
• 公開（公告）號: CN208038545U
• 公開（公告）日: 2018-11-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳金成;劉俊;卿新衛(wèi)
• 申請（專利權(quán)）人: 珠海市斗門區(qū)鴻茂玻璃有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
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• 代理人: 暫無信息

本實(shí)用新型公開了一種設(shè)計(jì)合理、可防止玻璃制品變形和真空環(huán)境穩(wěn)定的應(yīng)用于玻璃制品的磁控鍍膜生產(chǎn)線。本實(shí)用新型包括輸送裝置，輸送裝置上設(shè)置有真空腔室，真空腔室內(nèi)設(shè)置有四個(gè)隔離通道，隔離通道上均設(shè)置有玻璃輸送通道，四個(gè)隔離通道將真空腔室依次分割成第一低真空室、第一高真空室、鍍膜室、第二高真空室和第二低真空室，鍍膜室內(nèi)設(shè)置有磁控濺射靶，輸送裝置上的輸送輥為陶瓷輸送輥，第一低真空室和第二低真空室的兩端分別設(shè)置有第一抽真空器和第一抽風(fēng)器，第一高真空室和第二高真空室及鍍膜室的兩端分別設(shè)置有第二抽真空器和第二抽風(fēng)器，第二抽真空器的下端設(shè)置有加熱裝置。本實(shí)用新型應(yīng)用于磁控鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及磁控鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種應(yīng)用于玻璃制品的磁控鍍膜生產(chǎn)線。

背景技術(shù)

磁控濺射鍍膜是指將涂層材料做為靶陰極，利用氬離子轟擊靶材，產(chǎn)生陰極濺射，把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術(shù)。傳統(tǒng)的玻璃鍍膜大多只采用一個(gè)真空腔室，而一個(gè)真空腔室容易造成真空環(huán)境的不穩(wěn)定，從而影響玻璃鍍膜的質(zhì)量，另外再現(xiàn)有的磁控鍍膜生產(chǎn)設(shè)備上的傳送裝置，大多采用鋁合金或者是碳鋼制成的輸送輥，而玻璃在傳送裝置不斷與輸送輥相接觸，從而造成玻璃制品在鋁合金或碳鋼制成的輸送輥上發(fā)生形變，影響玻璃制品的質(zhì)量。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種設(shè)計(jì)合理、可防止玻璃制品變形和真空環(huán)境穩(wěn)定的應(yīng)用于玻璃制品的磁控鍍膜生產(chǎn)線。

本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是：本實(shí)用新型包括輸送裝置，所述輸送裝置上設(shè)置有真空腔室，所述真空腔室內(nèi)設(shè)置有四個(gè)隔離通道，所述隔離通道上均設(shè)置有玻璃輸送通道，四個(gè)所述隔離通道將所述真空腔室依次分割成第一低真空室、第一高真空室、鍍膜室、第二高真空室和第二低真空室，所述鍍膜室內(nèi)設(shè)置有磁控濺射靶，所述輸送裝置上的輸送輥為陶瓷輸送輥，所述第一低真空室和所述第二低真空室的兩端分別設(shè)置有第一抽真空器和第一抽風(fēng)器，所述第一高真空室和所述第二高真空室及所述鍍膜室的兩端分別設(shè)置有第二抽真空器和第二抽風(fēng)器，所述第二抽真空器的下端設(shè)置有加熱裝置。

進(jìn)一步的，所述加熱裝置為電爐。

進(jìn)一步的，所述鍍膜室上設(shè)置有鍍膜觀察窗。

本實(shí)用新型的有益效果是：由于本實(shí)用新型包括輸送裝置，所述輸送裝置上設(shè)置有真空腔室，所述真空腔室內(nèi)設(shè)置有四個(gè)隔離通道，所述隔離通道上均設(shè)置有玻璃輸送通道，四個(gè)所述隔離通道將所述真空腔室依次分割成第一低真空室、第一高真空室、鍍膜室、第二高真空室和第二低真空室，所述鍍膜室內(nèi)設(shè)置有磁控濺射靶，所述輸送裝置上的輸送輥為陶瓷輸送輥，所述第一低真空室和所述第二低真空室的兩端分別設(shè)置有第一抽真空器和第一抽風(fēng)器，所述第一高真空室和所述第二高真空室及所述鍍膜室的兩端分別設(shè)置有第二抽真空器和第二抽風(fēng)器，所述第二抽真空器的下端設(shè)置有加熱裝置,所以本實(shí)用新型通過所述陶瓷輸送輥帶動(dòng)玻璃制品依次通過所述第一低真空室、所述第一高真空室、所述鍍膜室、所述第二高真空室和所述第二低真空室，所述陶瓷輸送輥可以防止玻璃制品在傳送過程中發(fā)生變形的情況，所述真空腔室內(nèi)的所述第一低真空室、所述第一高真空室、所述鍍膜室、所述第二高真空室和所述第二低真空室，使濺射鍍膜的真空環(huán)境更加穩(wěn)定，使玻璃制品鍍膜效果更佳。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的俯視圖。

具體實(shí)施方式