[實用新型]用于熱處理基板的設備和用于處理基板的設備

有效

• 申請號: 201820126568.1
• 申請日: 2018-01-25
• 公開（公告）號: CN208208720U
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發明（設計）人: 埃里克·克哈雷·施諾
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種用于熱處理基板的設備，其特征在于，包括：

主體；

成角度的突起；和

氣體注入通道，包括：

第一半角；和

第二半角，其中所述第一半角不同于所述第二半角。

2.如權利要求1所述的設備，其特征在于，所述主體包括：

第一側面；

第二側面，與所述第一側面相對，其中所述第一側面實質上與所述第二側面是相同長度；

第三側面，與所述第一側面正交；

第一曲面，在所述第一側面與所述第三側面之間延伸；

第二曲面，在所述第三側面與所述第二側面之間延伸；

第四側面，與所述第二側面正交；

第三曲面，在所述第一側面與所述第四側面之間延伸；

第四曲面，在所述第四側面與所述第二側面之間延伸，其中在所述第三側面中與所述第四側面相對；

第五側面，與所述第一側面正交；和

第六側面，與所述第一側面正交，其中所述第六側面與所述第五側面相對。

3.如權利要求2所述的設備，其特征在于，所述成角度的突起設置在所述第五側面上，并且其中所述氣體注入通道設置在所述第六側面上。

4.如權利要求1所述的設備，其特征在于，所述成角度的突起是三角形。

5.如權利要求2所述的設備，其特征在于，所述成角度的突起包括：

第一小平面；和

第二小平面。

6.如權利要求5所述的設備，其特征在于，所述成角度的突起進一步包括圓形入口。

7.如權利要求6所述的設備，其特征在于，所述圓形入口與所述氣體注入通道流體連通。

8.如權利要求1所述的設備，其特征在于，所述氣體注入通道沿著流動路徑提供氣流，所述流動路徑位于距平行于所述流動路徑的基板支撐表面的切線5mm至10mm的距離處。

9.如權利要求1所述的設備，其特征在于，所述第一半角在29.5°與30.5°之間，并且其中所述第二半角在31.8°與32.8°之間。

10.如權利要求1所述的設備，其特征在于，所述氣體注入通道是朝向處理容積展開的扁平的漏斗形結構。

11.一種用于處理基板的設備，其特征在于，包括：

腔室主體，限定處理容積；

基板支撐件，設置在所述處理容積中，其中所述基板支撐件具有基板支撐表面；

氣源突起，耦接至所述腔室主體的入口；

排氣組件，耦接至所述腔室主體的出口；和

側面氣體組件，耦接至所述腔室主體的側壁，所述側面氣體組件包括：

氣體注入通道，包括：

第一半角；和

第二半角，其中所述第一半角不同于所述第二半角。

12.如權利要求11所述的設備，其特征在于，所述側面氣體組件進一步包括：

主體；和

成角度的突起。

13.如權利要求12所述的設備，其特征在于，所述主體包括：

第一側面；

第二側面，與所述第一側面相對，其中所述第一側面實質上與所述第二側面是相同長度；

第三側面，與所述第一側面正交；

第一曲面，在所述第一側面與所述第三側面之間延伸；

第二曲面，在所述第三側面與所述第二側面之間延伸；

第四側面，與所述第二側面正交；

第三曲面，在所述第一側面與所述第四側面之間延伸；

第四曲面，在所述第四側面與所述第二側面之間延伸，其中在所述第三側面中與所述第四側面相對；

第五側面，與所述第一側面正交；和

第六側面，與所述第一側面正交，其中所述第六側面與所述第五側面相對。