[實用新型]用于生產玻璃制品的設備

有效

• 申請號: 201820121663.2
• 申請日: 2018-01-24
• 公開（公告）號: CN208279493U
• 公開（公告）日: 2018-12-25
• 發明（設計）人: J·M·費諾蒂;T·L·蘭斯貝利;S·R·馬卡姆;J·J·麥金托什;中野雄生;阪本進也
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: C03B17/06
• 分類號: C03B17/06
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 徐鑫;項丹

本申請涉及避免玻璃成形設備的腐蝕的設備。用于生產玻璃制品的設備包括：外罩，所述外罩包括側壁和與側壁垂直的端壁，以及側壁和端壁中的至少一個包含SiC。成形設備置于外罩內，成形設備包括耐火成形體，其包括端部分和置于端部分上的含鉑端蓋，含鉑端蓋與端壁和側壁相鄰。在含鉑端蓋與由SiC形成的側壁和端壁中的至少一個之間放置耐火阻隔層，以防止端壁與端蓋之間的化學反應。在其他實施方式中，側壁和端壁可以有不同耐火材料形成。

相關申請的交叉參考

本申請要求2017年01月24日提交的美國臨時申請序列第62/449,749號的優先權，其全文通過引用結合入本文，如下所詳述。

技術背景

技術領域

本實用新型一般地涉及用于形成玻璃制品的設備，具體用于避免玻璃制造工藝中的成形設備的金屬組件的腐蝕。

背景技術

光學質量玻璃制品(例如，用于制造發光面板的玻璃基材、或者液晶或其他形式的視覺顯示器)的制造涉及高溫工藝，其包括將熔融玻璃傳輸通過含鉑管道或容器。在一些情況下，當加熱熔融玻璃時，還可使用用作熱擴散元件的碳化硅(SiC)材料，例如，SiC板材。雖然鉑(Pt)和SiC都提供了獨一無二的優勢以保證它們的使用，但是在玻璃制造中常見的高溫下的鉑組件與碳化硅之間的接觸會導致鉑組件的快速降解和/或失效。

因此，必須采取措施來防止鉑與SiC之間的接觸。

實用新型內容

某些高溫材料之間的接觸會導致一種或兩種材料的降解，這是由于材料之間的化學反應所導致的，例如鉑與某些非金屬耐火材料(例如碳化硅，SiC)。在玻璃制造工藝中，不同材料的相鄰組件的溫度會超過1000℃，以及不相容材料之間的接觸會導致一種或兩種材料的失效。在極端情況下，例如，甚至是短時間段接觸的情況下，與熔融玻璃接觸或者含有熔融玻璃的含鉑容器、管道或者其他制品接觸可能建立起允許熔融玻璃從其發生泄漏的孔。該泄露進而會妨礙玻璃制造工藝，并導致時間和/或產品的損失。在一些情況下，組件失效會造成人員危害。

因此，揭示了一種用于生產玻璃制品的設備，其包括：含鉑制品，與含鉑制品相鄰放置的含SiC主體，以及放置在含鉑制品與含SiC主體之間的阻隔層，所述阻隔層包括氧化鋁、硅線石或氧化鋯中的至少一種。阻隔層可以布置在含鉑制品或含SiC主體中的至少一個上。阻隔層的厚度可以約為0.1-2cm。

在一些實施方式中，含鉑制品是構造成運輸熔融玻璃的含鉑容器。

在一些實施方式中，含SiC主體是外罩的壁，以及含鉑制品是置于成形體的端部上的端蓋，所述成形體布置在外罩內。

在其他實施方式中，揭示了用于生產玻璃制品的設備，其包括外罩，例如包括側壁和與側壁基本垂直的端壁的外罩。側壁和端壁中的至少一個包括SiC。玻璃制造設備還可包括置于外罩內的成形體，成形體包括端部。側壁沿著成形體的長度延伸，也就是說，沿著成形體的縱軸延伸。成形體還包括置于成形體的端部上的含鉑端蓋，含鉑端蓋與側壁和端壁相鄰。例如，端蓋的主表面可以面朝端壁。玻璃制造設備還包括置于含鉑端蓋和所述側壁與端壁中的至少一個之間的耐火阻隔層。耐火阻隔層可以包括氧化鋁、硅線石或氧化鋯中的至少一種，但是也可以使用在大于或等于900℃的溫度與鉑相容的其他耐火材料。

在一些實施方式中，耐火阻隔層布置在含鉑端蓋上，例如面朝端壁。在一些實施方式中，耐火阻隔層可以布置在包含SiC的所述至少一個側壁和端壁的表面上。在其他實施方式中，可以在端蓋和端壁這兩者上都布置阻隔層。在一些情況下，含鉑端蓋可與布置在側壁和端壁的至少一個上或者側壁和端壁兩者上的阻隔層接觸。在一些實施方式中，耐火阻隔層可以包括等離子體噴霧或者火焰噴霧的氧化鋯，但是也可以使用不易于與鉑反應的其他耐火材料。耐火阻隔層的厚度可以約為0.1-2厘米(cm)。

在一些實施方式中，耐火成形體包括：在其上表面中的凹槽，以及在成形體的底邊緣匯聚的匯聚成形表面。