[實用新型]一種離軸光場成像系統有效
| 申請號： | 201820114847.6 | 申請日： | 2018-01-24 |
| 公開（公告）號： | CN207689741U | 公開（公告）日： | 2018-08-03 |
| 發明（設計）人： | 胡曉明 | 申請（專利權）人： | 北京嶄珀科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B17/06 | 分類號： | G02B17/06;G02B26/08;G02B7/182 |
| 代理公司： | 濟南千慧專利事務所(普通合伙企業) 37232 | 代理人： | 蘇金鋒 |
| 地址： | 100094 北京市海淀*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反射 光學器件 成像系統 離軸光 成像光路 離軸 微反射鏡陣列 感光器件 機構配置 配合 | ||
1.一種離軸光場成像系統，其特征在于：所述離軸光場成像系統沿成像光路依次包括離軸反射子系統、微反射鏡陣列和感光器件；
所述離軸反射子系統包括至少一個包含反射曲面的光學器件和與包含反射曲面的所述光學器件配合的至少一個調節機構，所述成像光路通過包含反射曲面的所述光學器件，所述至少一個調節機構配置于調節包含反射曲面的所述光學器件。
2.根據權利要求1所述的離軸光場成像系統，其特征在于，所述至少一個調節機構配置于調節包含反射曲面的所述光學器件，具體為：
所述調節機構適于調節所述光學器件的位置、角度和曲率中的至少一種。
3.根據權利要求2所述的離軸光場成像系統，其特征在于，還包括：
支撐結構，所述離軸反射子系統、所述微反射鏡陣列和所述感光器件設置于所述支撐結構上。
4.根據權利要求3所述的離軸光場成像系統，其特征在于，
所述支撐結構包括大體平行的第一支撐面和第二支撐面，所述離軸反射子系統包括多個包含反射曲面的光學器件，多個包含反射曲面的所述光學器件沿成像光路依次設置在第一支撐面和第二支撐面上。
5.根據權利要求4所述的離軸光場成像系統，其特征在于，
所述第一支撐面和所述第二支撐面具有大體上呈圓形的橫截面，所述光學器件的反射曲面關于所述圓形橫截面的圓心對稱。
6.根據權利要求1所述的離軸光場成像系統，其特征在于，還包括：
信號處理子系統，所述信號處理子系統適于將采集的光學信號轉換為數字信號。
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