[實(shí)用新型]一種二極管引線自動(dòng)清洗裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820103621.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207705164U | 公開(公告)日: | 2018-08-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 柳鶴林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州查斯特電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 215153 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 固定板 二極管引線 清洗槽 引線固定機(jī)構(gòu) 自動(dòng)清洗裝置 轉(zhuǎn)軸 驅(qū)動(dòng)電機(jī) 壓板 自動(dòng)清洗過(guò)程 穿過(guò) 本實(shí)用新型 固定板中心 浸入 傳動(dòng)連接 活動(dòng)穿過(guò) 平行設(shè)置 清洗效果 清洗效率 豎直設(shè)置 有效實(shí)現(xiàn) 轉(zhuǎn)軸端部 板體 槽口 線孔 液面 自動(dòng)化 節(jié)約 | ||
1.一種二極管引線自動(dòng)清洗裝置,其特征在于:包括引線固定機(jī)構(gòu)以及清洗槽,所述引線固定機(jī)構(gòu)包括第一固定板、第二固定板、壓板、轉(zhuǎn)軸以及驅(qū)動(dòng)電機(jī),所述第一固定板、第二固定板以及壓板均設(shè)置為圓形板,在第一固定板、第二固定板的板體圓心開有供轉(zhuǎn)軸穿過(guò)的軸孔,所述轉(zhuǎn)軸依次穿過(guò)第一固定板、第二固定板的軸孔并固定,所述第一固定板、第二固定板相互平行設(shè)置且在兩者板體上均設(shè)有多個(gè)供二極管引線穿過(guò)的線孔,第一固定板、第二固定板上的線孔對(duì)應(yīng)設(shè)置,所述壓板的中心設(shè)置有通孔,轉(zhuǎn)軸端部活動(dòng)穿過(guò)壓板上的通孔,壓板與第二固定板之間平行設(shè)置,在壓板與第二固定板之間形成二極管引線頭部的清洗空間,所述清洗槽置于引線固定機(jī)構(gòu)下部,第一固定板、第二固定板相對(duì)清洗槽內(nèi)的槽口內(nèi)的液面豎直設(shè)置且兩者的下部浸入清洗槽內(nèi),所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)與轉(zhuǎn)軸的一端傳動(dòng)連接并帶動(dòng)轉(zhuǎn)軸自由轉(zhuǎn)動(dòng),繼而帶動(dòng)第一固定板、第二固定板在清洗槽的槽口自由轉(zhuǎn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二極管引線自動(dòng)清洗裝置,其特征在于:所述第一固定板與第二固定板之間的軸孔邊緣設(shè)有多根支撐桿,所述支撐桿與第一固定板、第二固定板之間均垂直連接固定。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種二極管引線自動(dòng)清洗裝置,其特征在于:多根支撐桿圓周陣列分布于軸孔外邊緣。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種二極管引線自動(dòng)清洗裝置,其特征在于:所述支撐桿設(shè)置為可調(diào)節(jié)高度的伸縮桿。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二極管引線自動(dòng)清洗裝置,其特征在于:所述壓板的通孔內(nèi)設(shè)有可活動(dòng)套接在轉(zhuǎn)軸軸體上的套筒,所述套筒內(nèi)壁設(shè)有萬(wàn)向滾珠。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二極管引線自動(dòng)清洗裝置,其特征在于:所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過(guò)支撐座支撐固定于地面上。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





