[實(shí)用新型]光路傳輸換向裝置及光學(xué)性能參數(shù)檢測(cè)系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820097520.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207894805U | 公開(公告)日: | 2018-09-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 齊威;齊月靜;王宇;盧增雄;楊光華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院光電研究院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/01 | 分類號(hào): | G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京辰權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11619 | 代理人: | 郎志濤 |
| 地址: | 100094*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 換向筒 光學(xué)支架 輸出光 光路傳輸 換向裝置 光學(xué)性能參數(shù) 底板 本實(shí)用新型 檢測(cè)系統(tǒng) 輸入光 頂板安裝 限位機(jī)構(gòu) 反射鏡 中空的 側(cè)板 筒體 轉(zhuǎn)盤 轉(zhuǎn)動(dòng) | ||
本實(shí)用新型提供了一種光路傳輸換向裝置,包括輸入光筒、換向筒、光學(xué)支架、第一輸出光筒、第二輸出光筒、頂板以及底板,所述換向筒為部分中空的筒體,所述換向筒固定安裝在所述底板上,所述光學(xué)支架安裝在所述換向筒的內(nèi)部,所述光學(xué)支架上固定安裝有反射鏡,所述換向筒的周圍設(shè)有分別與所述輸入光筒、所述第一輸出光筒以及所述第二輸出光筒相連接的多個(gè)側(cè)板,所述頂板安裝在所述換向筒的頂部,所述頂板上設(shè)有能夠使所述換向筒轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)盤,所述頂板上還設(shè)有限位機(jī)構(gòu),并且所述限位機(jī)構(gòu)能夠?qū)⑺龉鈱W(xué)支架限位于第一狀態(tài)或不同于所述第一狀態(tài)的第二狀態(tài)。本實(shí)用新型還提供了一種包括上述光路傳輸換向裝置的光學(xué)性能參數(shù)檢測(cè)系統(tǒng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及激光技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種光路傳輸換向裝置及光學(xué)性能參數(shù)檢測(cè)系統(tǒng)。
背景技術(shù)
光刻機(jī)主要由投影物鏡、照明系統(tǒng)、掩模臺(tái)、工件臺(tái)、光源等主要部件組成,投影式光刻機(jī)光源波長(zhǎng)涵蓋很廣,包括紫外g線、i線、遠(yuǎn)紫外線、深紫外線、極紫外線等,目前市場(chǎng)上應(yīng)用最廣泛的是193nm(ArF)投影光學(xué)光刻機(jī)。其中的光源模塊通常是與整機(jī)獨(dú)立分開的,可以單獨(dú)自成系統(tǒng),從光源到光刻機(jī)主機(jī)通常是經(jīng)由一定路徑的傳輸光路連通。為避免激光在傳輸過程中與空氣發(fā)生反應(yīng),通常會(huì)將整個(gè)傳輸路徑做封閉處理,并且通入氮?dú)猓诜忾]路徑內(nèi)保持微正壓,使得空氣不能進(jìn)入光路部分,起到隔離激光與空氣的作用。光路傳輸裝置主要由折光點(diǎn)和管道組成,折光點(diǎn)通常內(nèi)部為一個(gè)45°的反光鏡,可將光傳導(dǎo)方向轉(zhuǎn)折90°,管道主要是封閉激光傳播路徑。折光元件與管道連接處均設(shè)有密封元件,防止氮?dú)庑孤瑫r(shí)保持密閉光路內(nèi)微正壓。
同樣,在常規(guī)的光學(xué)性能參數(shù)的檢測(cè)以及光源性能參數(shù)檢測(cè)等領(lǐng)域,激光器光源也都是不可缺少的組件,目前,激光器已形成獨(dú)立的產(chǎn)品,在很多情況下都不會(huì)與整機(jī)集成在一起,而是分立安裝,這樣不可避免地會(huì)用到光路傳輸裝置。通常情況下激光器到光刻機(jī)或是光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的傳輸光路都會(huì)做成固定的專用光路,即一臺(tái)激光器供一臺(tái)光刻或檢測(cè)設(shè)備使用,但當(dāng)一臺(tái)激光器需要供兩臺(tái)設(shè)備交替使用時(shí),由于這些設(shè)備體積質(zhì)量非常大,不便搬運(yùn),此時(shí)就需要一種光路換向裝置,可以根據(jù)使用需求切換激光到不同的設(shè)備上。這種應(yīng)用場(chǎng)合一般在半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)線上不會(huì)出現(xiàn),但在設(shè)備研發(fā)和光學(xué)檢測(cè)中會(huì)出現(xiàn),在此種應(yīng)用場(chǎng)合,建立一臺(tái)激光器對(duì)一臺(tái)光刻或?qū)嶒?yàn)設(shè)備的專用光路,就會(huì)多使用一臺(tái)激光器,由此也會(huì)多使用一些空間以及氣源、能源等資源,增加成本。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是至少解決上述缺陷與不足之一,該目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的。
本實(shí)用新型提供了一種光路傳輸換向裝置,包括輸入光筒、換向筒、光學(xué)支架、第一輸出光筒、第二輸出光筒、頂板以及底板,所述換向筒為部分中空的筒體,所述換向筒固定安裝在所述底板上,所述光學(xué)支架安裝在所述換向筒的內(nèi)部,所述光學(xué)支架上固定安裝有反射鏡,所述換向筒的周圍設(shè)有分別與所述輸入光筒、所述第一輸出光筒以及所述第二輸出光筒相連接的多個(gè)側(cè)板,所述頂板安裝在所述換向筒的頂部,所述頂板上設(shè)有能夠使所述換向筒轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)盤,所述頂板上還設(shè)有限位機(jī)構(gòu),并且,所述限位機(jī)構(gòu)能夠?qū)⑺龉鈱W(xué)支架限位于第一狀態(tài)或不同于所述第一狀態(tài)的第二狀態(tài),在所述光學(xué)支架的所述第一狀態(tài),光線經(jīng)由所述第一輸出光筒輸出,在所述光學(xué)支架的所述第二狀態(tài),光線經(jīng)由所述第二輸出光筒輸出。
進(jìn)一步地,所述第一輸出光筒的中心軸線和所述第二輸出光筒的中心軸線重合,所述輸入光筒的中心軸線與所述第一輸出光筒的中心軸線和所述第二輸出光筒的中心軸線垂直。
進(jìn)一步地,所述多個(gè)側(cè)板包括與所述輸入光筒連接的輸入側(cè)板、與所述第一輸出光筒連接的第一側(cè)板以及與所述第二輸出光筒連接的第二側(cè)板,所述第一側(cè)板與所述第二側(cè)板對(duì)稱地安裝在所述輸入側(cè)板的兩側(cè),所述多個(gè)側(cè)板將所述換向筒包圍封閉。
進(jìn)一步地,所述光學(xué)支架與所述底板垂直,所述反射鏡通過壓環(huán)固定在所述光學(xué)支架上。
進(jìn)一步地,所述光學(xué)支架與所述換向筒通過拉簧固定連接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院光電研究院,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院光電研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201820097520.2/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





