[實用新型]一種單片濕法蝕刻工藝的蝕刻液輸送裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820089834.8
• 申請日: 2018-01-18
• 公開（公告）號: CN207781540U
• 公開（公告）日: 2018-08-28
• 發(fā)明（設計）人: 崔亞東;張文福;高英哲
• 申請（專利權）人: 德淮半導體有限公司
• 主分類號: H01L21/306
• 分類號: H01L21/306;H01L21/677
• 代理公司: 蘇州慧通知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 32239
• 代理人: 丁秀華

1.一種單片濕法蝕刻工藝的蝕刻液輸送裝置，包括依次通過輸送管路連接的藥液槽、循環(huán)泵、調溫裝置、第一節(jié)流閥、刻蝕腔和回收閥，所述回收閥的蝕刻液輸出端與藥液槽的蝕刻液輸入端通過輸送管路連接，使所述蝕刻液輸送裝置形成循環(huán)回路，其特征在于：所述第一節(jié)流閥的蝕刻液輸出端之后、刻蝕腔的蝕刻液輸入端之前，設有連接至藥液槽的回流管路。

2.根據(jù)權利要求1所述的單片濕法蝕刻工藝的蝕刻液輸送裝置，其特征在于：所述回流管路的蝕刻液輸入端管路從上方接入所述第一節(jié)流閥的蝕刻液輸出端之后的輸送管路。

3.根據(jù)權利要求2所述的單片濕法蝕刻工藝的蝕刻液輸送裝置，其特征在于：所述回流管路的蝕刻液輸入端管路與第一節(jié)流閥的蝕刻液輸出端管路是相互垂直的。

4.根據(jù)權利要求1或2所述的單片濕法蝕刻工藝的蝕刻液輸送裝置，其特征在于：所述回流管路上設有回流節(jié)流閥。

5.根據(jù)權利要求1所述的單片濕法蝕刻工藝的蝕刻液輸送裝置，其特征在于：所述調溫裝置與第一節(jié)流閥之間設有連接至藥液槽的循環(huán)管路，所述循環(huán)管路上設有自循環(huán)節(jié)流閥。

6.根據(jù)權利要求5所述的單片濕法蝕刻工藝的蝕刻液輸送裝置，其特征在于：所述循環(huán)管路的蝕刻液輸入端管路與調溫裝置的蝕刻液輸出端管路是相互垂直的。

7.根據(jù)權利要求1-3、5、6任一所述的單片濕法蝕刻工藝的蝕刻液輸送裝置，其特征在于：在所述回流管路與第一節(jié)流閥輸出端連接點之后、在刻蝕腔的蝕刻液輸入端之前，設有第二節(jié)流閥。

8.根據(jù)權利要求7所述的單片濕法蝕刻工藝的蝕刻液輸送裝置，其特征在于：所述第二節(jié)流閥的蝕刻液輸出端與刻蝕腔的蝕刻液輸入端之間設有回吸閥。

9.根據(jù)權利要求1所述的單片濕法蝕刻工藝的蝕刻液輸送裝置，其特征在于：所述刻蝕腔的蝕刻液輸出端與藥液槽的蝕刻液輸入端之間設有排液閥。

10.根據(jù)權利要求1所述的單片濕法蝕刻工藝的蝕刻液輸送裝置，其特征在于：所述調溫裝置具有冷卻或加熱的功能。