[實用新型]一種微繪琺瑯表盤及手表有效
| 申請號： | 201820086432.2 | 申請日： | 2018-01-17 |
| 公開（公告）號： | CN207817425U | 公開（公告）日： | 2018-09-04 |
| 發明（設計）人： | 袁軍平;代思暉;王含予 | 申請（專利權）人： | 廣州番禺職業技術學院 |
| 主分類號： | G04B47/04 | 分類號： | G04B47/04;G04B19/10 |
| 代理公司： | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人： | 宋靜娜;郝傳鑫 |
| 地址： | 510000 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 表盤 陶瓷 琺瑯 手表機芯 針腳 本實用新型 定位凹槽 定位凹坑 定位手表 表冠 背面 手表 數控平面磨床 表針安裝孔 等靜壓成型 表面平整 琺瑯釉層 金屬表盤 側面 變形的 常規的 機芯 表針 卡針 適配 貼合 燒制 制作 | ||
1.一種微繪琺瑯表盤，包括陶瓷表盤本體，其特征在于：所述陶瓷表盤本體的中心設有表針安裝孔，所述陶瓷表盤本體的背面設有用于安裝手表機芯的針腳的定位凹坑，所述陶瓷表盤本體的側面設有用于定位手表表冠的定位凹槽，所述陶瓷表盤本體的正面設有琺瑯釉層。
2.如權利要求1所述的微繪琺瑯表盤，其特征在于：所述陶瓷表盤本體的側面和背面鍍有金屬鈦層。
3.如權利要求1所述的微繪琺瑯表盤，其特征在于：所述琺瑯釉層的厚度為0.15～0.25mm，所述琺瑯釉層包括底層的底釉層和上層的在顯微鏡下繪制的畫琺瑯釉層。
4.如權利要求1所述的微繪琺瑯表盤，其特征在于：所述陶瓷表盤本體由納米氧化鋯形成，所述陶瓷表盤本體的表面粗糙度為13～16μm、厚度為0.3～0.4mm。
5.如權利要求1所述的微繪琺瑯表盤，其特征在于：所述表針安裝孔的直徑為1.8～2.0mm。
6.如權利要求1所述的微繪琺瑯表盤，其特征在于：所述定位凹坑的深度為0.5～0.6mm、直徑為1.2～1.5mm。
7.如權利要求1所述的微繪琺瑯表盤，其特征在于：所述定位凹槽的寬度為0.2～0.25mm、深度為0.1～0.15mm。
8.如權利要求3所述的微繪琺瑯表盤，其特征在于：所述底釉層由熱膨脹系數為8×10-6/℃～9×10-6/℃的中高溫白色釉粉形成。
9.如權利要求3所述的微繪琺瑯表盤，其特征在于：所述畫琺瑯釉層由熱膨脹系數為6×10-6/℃～8×10-6/℃的中低溫釉料形成。
10.一種手表，其特征在于，包括如權利要求1～9任一項所述的微繪琺瑯表盤。
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