[實用新型]一種負離子瓷磚的淋釉裝置

有效

• 申請號: 201820074985.6
• 申請日: 2018-01-16
• 公開（公告）號: CN207789284U
• 公開（公告）日: 2018-08-31
• 發明（設計）人: 黃曉源
• 申請（專利權）人: 清遠順昌陶瓷有限公司
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04
• 代理公司: 東莞高瑞專利代理事務所(普通合伙) 44444
• 代理人: 楊英華

1.一種負離子瓷磚的淋釉裝置，包括支架(1)和傳輸帶(2)，其特征在于：所述支架(1)的頂部固定連接有電動伸縮桿(3)，所述電動伸縮桿(3)的頂部固定連接有頂板(4)，所述頂板(4)的底部固定連接有液斗(5)，所述液斗(5)的底部連通有淋釉展盤(6)，所述傳輸帶(2)底部的兩側均固定連接有支腿(7)，所述傳輸帶(2)的表面放置有未淋釉的負離子瓷磚，所述支架(1)背面的底部固定連接有支撐板(8)，所述支撐板(8)頂部的前端固定連接有攪拌箱(9)，所述攪拌箱(9)的頂部固定連接有電機(10)，所述電機(10)的輸出端貫穿攪拌箱(9)的頂部并固定連接有傳動桿(11)，所述傳動桿(11)的兩側均固定連接有攪拌葉(12)，所述支撐板(8)頂部的后端固定連接有油泵(13)，所述油泵(13)的左側連通有軟管(14)，所述軟管(14)遠離油泵(13)的一端與攪拌箱(9)右側的底部連通，所述油泵(13)的右側通過軟管(14)與液斗(5)連通。

2.根據權利要求1所述的一種負離子瓷磚的淋釉裝置，其特征在于：所述支架(1)和支腿(7)的底部均設置有防滑墊(15)，所述防滑墊(15)的底部設置有防滑紋。

3.根據權利要求1所述的一種負離子瓷磚的淋釉裝置，其特征在于：所述攪拌箱(9)右側的頂部連通有進料斗(16)，所述攪拌葉(12)的表面開設有通孔(17)。

4.根據權利要求1所述的一種負離子瓷磚的淋釉裝置，其特征在于：所述支撐板(8)底部右側的前端和后端均固定連接有加強筋(18)，所述加強筋(18)遠離支撐板(8)的一端與支架(1)固定連接。