[實(shí)用新型]一種H2S氣體紫外光譜檢測(cè)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820067605.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207662793U | 公開(公告)日: | 2018-07-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張俊龍;謝馨;葉兵;蔡冰松;鄭昌軍;何剛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢敢為科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/33 | 分類號(hào): | G01N21/33 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 曹麗 |
| 地址: | 430299 湖北省武漢市東湖新技*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣體吸收池 長(zhǎng)光程 紫外光 紫外光纖光譜儀 光纖聚焦系統(tǒng) 光纖準(zhǔn)直系統(tǒng) 紫外光譜檢測(cè) 紫外光源 紫外差分吸收光譜 實(shí)時(shí)在線檢測(cè) 本實(shí)用新型 測(cè)量精度高 電力監(jiān)測(cè) 多次反射 光譜數(shù)據(jù) 光纖傳輸 計(jì)算處理 檢測(cè)技術(shù) 勘探開發(fā) 施工安全 集成度 石油勘探 計(jì)算機(jī) 入射 環(huán)境監(jiān)測(cè) 存儲(chǔ) 光纖 聚焦 發(fā)射 檢測(cè) | ||
1.一種H2S氣體紫外光譜檢測(cè)裝置,包括紫外光源、光纖準(zhǔn)直系統(tǒng)、長(zhǎng)光程氣體吸收池、光纖聚焦系統(tǒng)、紫外光纖光譜儀和計(jì)算機(jī),其特征在于:所述紫外光源位于光纖準(zhǔn)直系統(tǒng)一側(cè),用于發(fā)射紫外光;所述光纖準(zhǔn)直系統(tǒng)位于長(zhǎng)光程氣體吸收池一側(cè),用于將所述紫外光進(jìn)行準(zhǔn)直后入射到長(zhǎng)光程氣體吸收池入光口;所述長(zhǎng)光程氣體吸收池用于裝待檢測(cè)氣體,并將入射進(jìn)來(lái)的紫外光經(jīng)過(guò)多次反射以后反射出去并由光纖聚焦系統(tǒng)聚焦到光纖;所述紫外光纖光譜儀位于所述長(zhǎng)光程氣體吸收池的一側(cè),用于接收光纖聚焦系統(tǒng)聚焦到光纖的光;所述計(jì)算機(jī)用于接收所述紫外光纖光譜儀的光譜數(shù)據(jù),并進(jìn)行計(jì)算處理和存儲(chǔ)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種H2S氣體紫外光譜檢測(cè)裝置,其特征在于:所述長(zhǎng)光程氣體吸收池為一長(zhǎng)方體,在長(zhǎng)方體靠近光纖準(zhǔn)直系統(tǒng)的一側(cè)開有上下兩個(gè)透明孔,上部透明孔用于透射光纖準(zhǔn)直系統(tǒng)準(zhǔn)直后的所述紫外光,下部透明孔用于透射反射后的紫外光;長(zhǎng)方體的內(nèi)部設(shè)有反射鏡,靠近光纖聚焦系統(tǒng)一側(cè)設(shè)有一個(gè)較大的反射鏡,另一側(cè)設(shè)有兩個(gè)較小的反射鏡,用于將透射進(jìn)來(lái)的紫外光進(jìn)行多次反射。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種H2S氣體紫外光譜檢測(cè)裝置,其特征在于:所述長(zhǎng)光程氣體吸收池包括入氣口和出氣口,所述入氣口通過(guò)導(dǎo)氣管將待檢測(cè)氣體導(dǎo)入,所述出氣口用于將氣體導(dǎo)出。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的一種H2S氣體紫外光譜檢測(cè)裝置,其特征在于:所述光纖準(zhǔn)直系統(tǒng)通過(guò)光纖將紫外光入射進(jìn)所述長(zhǎng)光程氣體吸收池;所述紫外光纖光譜儀通過(guò)光纖接收反射出來(lái)的紫外光譜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種H2S氣體紫外光譜檢測(cè)裝置,其特征在于:所述紫外光源和紫外光纖光譜儀接有電源,所述紫外光纖光譜儀與所述計(jì)算機(jī)通過(guò)USB進(jìn)行連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種H2S氣體紫外光譜檢測(cè)裝置,其特征在于:所述計(jì)算機(jī)連接有觸屏顯示器,所述觸屏顯示器用于查看檢測(cè)數(shù)據(jù)和設(shè)置整個(gè)系統(tǒng)參數(shù)。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
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