[實(shí)用新型]一種工業(yè)固廢等離子氣化環(huán)保處理器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820062854.6 | 申請日: | 2018-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN207862269U | 公開(公告)日: | 2018-09-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 季彪 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州科瓏化工有限公司 |
| 主分類號: | C10J3/00 | 分類號: | C10J3/00;C10J3/76 |
| 代理公司: | 合肥市科融知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 34126 | 代理人: | 陳思聰 |
| 地址: | 510000 廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 預(yù)處理腔 等離子 進(jìn)料口 環(huán)保處理器 可燃?xì)獬隹?/a> 水蒸汽出口 干餾室 氣化腔 氣化 廢棄物 可燃?xì)怏w混合 預(yù)處理 本實(shí)用新型 水蒸氣 從上至下 頂部中央 進(jìn)行裝置 密封連接 上下兩端 有效分類 開關(guān)門 開口狀 密封盤 氣密性 拼接 保證 修理 維護(hù) | ||
本實(shí)用新型公開了一種工業(yè)固廢等離子氣化環(huán)保處理器,包括預(yù)處理腔、等離子氣化腔、廢棄物腔和進(jìn)料口,所述預(yù)處理腔、等離子氣化腔和廢棄物腔從上至下依次拼接連接,所述進(jìn)料口位于預(yù)處理腔頂部中央并與預(yù)處理腔相連通,在預(yù)處理腔頂部、進(jìn)料口兩側(cè)分別設(shè)有水蒸汽出口和可燃?xì)獬隹冢谒羝隹诤涂扇細(xì)獬隹谂c預(yù)處理腔的連接處均設(shè)有開關(guān)門,在預(yù)處理腔內(nèi)部設(shè)有干餾室,所述干餾室上下兩端均呈開口狀;本裝置通過密封盤對相鄰兩個(gè)腔進(jìn)行密封連接,保證了裝置整體的氣密性,并且方便進(jìn)行裝置內(nèi)部的維護(hù)修理,并且通過預(yù)處理腔對固廢進(jìn)行預(yù)處理工作,避免了水蒸氣和可燃?xì)怏w混合,保證了處理后氣體的有效分類。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及環(huán)保設(shè)備,具體是一種工業(yè)固廢等離子氣化環(huán)保處理器。
背景技術(shù)
近幾年,國家對于環(huán)保相關(guān)領(lǐng)域的重視程度已由態(tài)度重視轉(zhuǎn)變?yōu)樾袆又匾暎h(huán)保投入逐年增加,大氣、水、廢棄物等防治計(jì)劃頻頻出臺,其中最為重點(diǎn)和難點(diǎn)的問題就是工業(yè)固廢的處理,目前廢棄物的常用處理方式如焚燒、掩埋因?yàn)槎挝廴镜膯栴}逐漸被禁止,需要新的處理方式來應(yīng)對快速發(fā)展的工業(yè)需求。
等離子氣化,簡稱PLGA,是指通過等離子技術(shù)使得蘭炭在等離子氣化爐中氣化的一種最新技術(shù)。利用等離子點(diǎn)火器產(chǎn)生的等離子電弧制造高能熱環(huán)境,通入適當(dāng)比例的等離子氣化劑,使蘭炭在等離子活性狀態(tài)的熱環(huán)境中發(fā)生一系列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng),生成主要成分為H2、CO的可燃?xì)怏w。
目前的等離子氣化處理裝置多為一體化設(shè)備,在進(jìn)行維護(hù)方面很不方便,并且在進(jìn)行不同工序的處理時(shí),所需要的溫度控制不能很好的控制。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種工業(yè)固廢等離子氣化環(huán)保處理器能,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:
一種工業(yè)固廢等離子氣化環(huán)保處理器,包括預(yù)處理腔、等離子氣化腔、廢棄物腔和進(jìn)料口,所述預(yù)處理腔、等離子氣化腔和廢棄物腔從上至下依次拼接連接,所述進(jìn)料口位于預(yù)處理腔頂部中央并與預(yù)處理腔相連通,在預(yù)處理腔頂部、進(jìn)料口兩側(cè)分別設(shè)有水蒸汽出口和可燃?xì)獬隹冢谒羝隹诤涂扇細(xì)獬隹谂c預(yù)處理腔的連接處均設(shè)有開關(guān)門,在預(yù)處理腔內(nèi)部設(shè)有干餾室,所述干餾室上下兩端均呈開口狀,在干餾室內(nèi)上部設(shè)有多個(gè)沿水平方向平行排列的阻擋輥,所述阻擋輥兩端與干餾室內(nèi)壁轉(zhuǎn)動連接,在干餾室內(nèi)、阻擋輥下方設(shè)有爐排;所述等離子氣化腔外壁沿圓周方向設(shè)有多個(gè)等離子發(fā)生器,所述等離子氣化腔外壁包括水套層和絕熱層,所述絕熱層包裹在水套層外壁上,水套層內(nèi)部中空,在水套層上部設(shè)有出水口,在水套層下部設(shè)有進(jìn)水口,進(jìn)水口和出水口均與水套層內(nèi)部相連通,在等離子氣化腔底部設(shè)有緩沖斗,在緩沖斗底部設(shè)有開關(guān)門;所述廢棄物腔底部設(shè)有排渣口,在廢棄物腔外壁中部開設(shè)有溢流口;所述預(yù)處理腔和等離子氣化腔的連接處、等離子氣化腔和廢棄物腔的連接處均設(shè)有密封器,所述密封器包括成對設(shè)置的密封盤,在上方的密封盤具有螺紋凹槽,在下方的密封盤具有螺紋管。
作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案:所述水蒸汽出口和可燃?xì)獬隹趦?nèi)均設(shè)有排氣扇。
作為本實(shí)用新型再進(jìn)一步的優(yōu)選方案:所述等離子發(fā)生器與等離子氣化腔之間的夾角為45°。
作為本實(shí)用新型再進(jìn)一步的優(yōu)選方案:所述緩沖斗呈向下收口狀。
作為本實(shí)用新型再進(jìn)一步的優(yōu)選方案:所述溢流口內(nèi)設(shè)有濾水膜。
作為本實(shí)用新型再進(jìn)一步的優(yōu)選方案:所述進(jìn)水口和出水口均為外螺紋管。
作為本實(shí)用新型再進(jìn)一步的優(yōu)選方案:所述螺紋管外側(cè)套有密封圈。
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