[實(shí)用新型]改善減振器回彈阻尼力偏差的回彈承盤/活塞及減振器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820062331.1 | 申請日: | 2018-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN208041039U | 公開(公告)日: | 2018-11-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胥永超;楊健;張悅 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社萬都;萬都中國控股有限公司 |
| 主分類號: | F16F9/32 | 分類號: | F16F9/32;F16F9/34 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 張晶;趙赫 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 減振器 回彈 本實(shí)用新型 主體座 座環(huán) 活塞 阻尼力 承盤 通孔 粉末冶金件 分體制造 過盈配合 配合連接 一體結(jié)構(gòu) 平面度 軸向 組裝 | ||
本實(shí)用新型涉及減振器技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種改善減振器回彈阻尼力偏差的回彈承盤/活塞,包括主體座和座環(huán),所述主體座和座環(huán)分體制造,并組裝為配合連接的一體結(jié)構(gòu);所述主體座的軸向設(shè)有通孔,所述座環(huán)與所述通孔過盈配合。本實(shí)用新型還公開了一種減振器。本實(shí)用新型能夠改善原有粉末冶金件存在的平面度差及批次間形象控制難的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及減震器技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種改善減振器回彈阻尼力偏差的回彈承盤/活塞及減振器。
背景技術(shù)
目前的閥系結(jié)構(gòu)大致有兩種,閥片直接接觸PISTON(活塞),閥片和活塞中間裝有REBOUND RETAINER(回彈承盤);現(xiàn)在的回彈承盤和活塞成型工藝多為粉末冶金,其顯著特點(diǎn)是可以自動化批量生產(chǎn)。但是也存在部分難以優(yōu)化改善的問題:
1、座環(huán)部位平面度差,目前技術(shù)很難達(dá)到5um,更不可能做到2um以下;
2、座環(huán)部位形象批次間差異大,可能出現(xiàn)以下三種形象:座環(huán)與主體座之間平行、內(nèi)高外低、內(nèi)低外高;
由于以上問題的存在,兩種閥系結(jié)構(gòu)下,減振器回彈阻尼力差異大,最多可達(dá)到10~20kgf。
實(shí)用新型內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是如何改善原有粉末冶金件存在的平面度差及批次間形象控制難的問題。
(二)技術(shù)方案
為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種改善減振器回彈阻尼力偏差的回彈承盤/活塞,其主要包括主體座和座環(huán),所述主體座和座環(huán)分體制造,并組裝為配合連接的一體結(jié)構(gòu)。
本實(shí)用新型的實(shí)施例中,所述主體座的軸向設(shè)有通孔,所述座環(huán)與所述通孔過盈配合。
本實(shí)用新型的實(shí)施例中,所述主體座通過粉末冶金加工制成。
本實(shí)用新型的實(shí)施例中,所述粉末冶金所用的材料為鐵、碳粉末,通過設(shè)定比例混合冶煉而成。
本實(shí)用新型的實(shí)施例中,所述座環(huán)通過高強(qiáng)度鋼振動研磨制成。
本實(shí)用新型的實(shí)施例中,所述座環(huán)表面的平面度滿足5um或2um。
本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種減震器,包括柱塞、閥片和上述所述的改善減振器回彈阻尼力偏差的回彈承盤/活塞,所述回彈承盤/活塞套設(shè)在所述柱塞上,所述閥片也套設(shè)在所述柱塞上且安裝在所述回彈承盤/活塞的至少一側(cè),所述閥片與所述座環(huán)的上表面和/或下表面接觸。
(三)有益效果
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):
本實(shí)用新型提供的一種改善減振器回彈阻尼力偏差的回彈承盤/活塞及減振器,其中,改善減振器回彈阻尼力偏差的回彈承盤/活塞主要包括主體座和座環(huán),所述主體座和座環(huán)分體制造,并組裝為配合連接的一體結(jié)構(gòu);從而座環(huán)可以獨(dú)立加工為滿足平面度(5um/2um)及批次間形象工藝的要求,各批次間只有一種規(guī)格存在,從而通過控制座環(huán)的精度,改善了原有粉末冶金件存在的平面度差及形象控制難的問題。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型一種改善減振器回彈阻尼力偏差的回彈承盤的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型一種改善減振器回彈阻尼力偏差的活塞的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖中:1:主體座;2:座環(huán);3:流通通孔。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例,對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型,但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會社萬都;萬都中國控股有限公司,未經(jīng)株式會社萬都;萬都中國控股有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201820062331.1/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種新能源汽車用減震器
- 下一篇:一種新型汽車減震器防塵罩





