[實用新型]用于硅基異質結太陽電池透明電極制備的掩膜模具

有效

• 申請號: 201820055008.1
• 申請日: 2018-01-14
• 公開（公告）號: CN207760415U
• 公開（公告）日: 2018-08-24
• 發明（設計）人: 杜國杰;薛俊明;高建軍;王占英;王燕增;李建杰;代杰
• 申請（專利權）人: 河北漢盛光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/35;H01L31/18
• 代理公司: 衡水市盛博專利事務所 13119
• 代理人: 李志華

本實用新型屬于模具技術領域，公開了一種用于硅基異質結太陽電池透明電極制備的掩膜模具。其主要技術特征為：包括上蓋和底托，上蓋中部設置有至少一個鏤空槽，鏤空槽的邊沿設置有突出上蓋的刀口，上蓋的邊沿設置有限位凸環，底托中部設置有大小、數量與鏤空槽相匹配的底槽，底槽的邊沿設置有與刀口相匹配的刀槽，底托的邊沿設置有與限位凸環相匹配的限位槽。本實用新型所提供的用于硅基異質結太陽電池透明電極制備的掩膜模具，解決了漏電問題,節省了刻蝕工藝步驟，消除了工藝不穩定因素。

技術領域

本實用新型屬于模具技術領域，尤其涉及一種用于硅基異質結太陽電池透明電極制備的掩膜模具。

背景技術

近年來，太陽能光伏產業發展迅猛，傳統晶體硅太陽電池產能過剩，同質化競爭問題日漸突顯，開發高效硅異質結太陽電池是解決這一問題的有效途徑。磁控濺射設備是生產硅異質結太陽能電池的關鍵設備，用于制備透明導電膜。現有太陽能電池正反兩面制備完透明導電膜后由于邊緣也會濺射上導電膜，正電極和負電極很容易通過邊緣導電膜而導通，從而會發生邊緣漏電的問題，為解決此問題，需增加一道刻蝕膏印刷刻蝕掉邊緣導電膜，但是帶來的工藝不穩定性大大增加。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題就是提供一種能解決漏電問題,節省刻蝕工藝步驟，消除工藝不穩定因素的用于硅基異質結太陽電池透明電極制備的掩膜模具。

為解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案為：包括上蓋和底托，上蓋中部設置有至少一個鏤空槽，鏤空槽的邊沿設置有突出上蓋的刀口，上蓋的邊沿設置有限位凸環，底托中部設置有大小、數量與鏤空槽相匹配的底槽，底槽的邊沿設置有與刀口相匹配的刀槽，底托的邊沿設置有與限位凸環相匹配的限位槽。

其附加技術特征為：所述的刀口突出上蓋0.3-0.5mm，刀口背部為斜坡；

所述的刀口突出上蓋0.4mm，刀口背部斜坡倒角角度為60°；

所述的鏤空槽、底槽為四個，鏤空槽、底槽為正方形、矩形或切角的正方形；

所述底托的限位槽上對稱開有一對缺口。

本實用新型所提供的用于硅基異質結太陽電池透明電極制備的掩膜模具，制造時，選擇熱穩定性和可塑性良好的鈦合金材料作為模具的基材。在上蓋做出四個合適尺寸的鏤空部分。根據設計圖紙用銑床銑出上蓋的結構。根據設計圖紙用銑床銑出底托的結構。對上蓋和底托進行拋光打磨。最后將上蓋和底托進行整平處理。使用時，將硅片放于底托的刀槽處，將上蓋蓋在底托上壓實即可。此時限位凸環與限位槽接觸，刀口與刀槽接觸，上蓋和底托結合嚴絲合縫，刀口設計實現了對硅片的絕對平整壓實，避免了因模具彎曲造成的虛壓，達到掩膜的目的，進行鍍膜效果好。本實用新型所提供的用于硅基異質結太陽電池透明電極制備的掩膜模具，解決了漏電問題,節省了刻蝕工藝步驟，消除了工藝不穩定因素。模具做整平拋光處理，以達到掩膜效果。上蓋做突出的刀口用于鍍膜和壓片用，限位凸環和限位槽做限位用，刀槽用于放置硅片和刀口。鏤空槽尺寸與硅片相比略小1.5mm，刀槽尺寸與硅片相比要大0.2mm，底槽尺寸與硅片相比要小19mm。根據需要，刀口突出上蓋0.3-0.5mm，刀口背部為斜坡，最好是刀口突出上蓋0.4mm，刀口背部斜坡倒角角度為60°。倒角的設計避免了因模具自身遮擋造成的邊沿鍍膜厚度不均問題。鏤空槽、底槽為四個或其它個數，鏤空槽、底槽為正方形、矩形或切角的正方形。而底托的限位槽上對稱開有一對缺口，用于取上蓋方便。

附圖說明

圖1為本實用新型用于硅基異質結太陽電池透明電極制備的掩膜模具的上蓋的正面結構示意圖；

圖2為上蓋的背面結構示意圖；

圖3為上蓋邊沿的截面圖；

圖4為底托的結構示意圖；

圖5為底托邊沿的截面圖。

具體實施方式