[實用新型]一種高質量氧化鋁真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201820047217.1
• 申請日: 2018-01-11
• 公開（公告）號: CN208008878U
• 公開（公告）日: 2018-10-26
• 發明（設計）人: 韋周萍
• 申請（專利權）人: 韋周萍
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種高質量氧化鋁真空鍍膜裝置，包括真空箱、下側箱和攪勻裝置，所述真空箱內部設有鍍膜鼓,鍍膜鼓上纏繞有PET基材，所述下側箱和真空箱之間設有隔板且隔板上配合PET基材設有開槽口，開槽口下端設有導管，導管底部設有蒸發舟,導管左側穿插有氧氣輸送管,導管右側穿插有氮氣輸送管，所述攪勻裝置設置在導管內部，攪勻裝置表面設有光滑防附著材料。本實用新型高質量氧化鋁真空鍍膜裝置，攪勻桿轉動后可提高鋁和氧氣與氮氣的混合效果，促進氧氣和鋁反應生成氧化鋁，具有生產效率高、質量高等優點。

技術領域

本實用新型涉及一種氧化鋁真空鍍膜裝置，具體是一種高質量氧化鋁真空鍍膜裝置。

背景技術

在真空環境中，將材料加熱并鍍到基片上的技術為真空蒸鍍。具體而言，真空蒸鍍是將待成膜的物質置于真空中進行蒸發或升華，使之在工件或基片表面析出的過程。真空蒸鍍中的金屬鍍層通常為鋁膜，但其它金屬也可通過蒸發沉積形成。隨著我國電解鋁、陶瓷、醫藥、電子、機械等行業的快速發展，市場對氧化鋁需求量仍有較大的增長空間，氧化鋁產量將會不斷增長。

目前使用的鍍膜裝置存在結構復雜導致鍍膜質量低、效率差的問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種高質量氧化鋁真空鍍膜裝置，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：

一種高質量氧化鋁真空鍍膜裝置，包括真空箱、下側箱和攪勻裝置，所述真空箱設置在裝置主體的頂部內側，真空箱右側設有抽管,抽管上端連接有抽真空機,抽真空機左側固定在裝置主體的外壁上，真空箱內部設有鍍膜鼓,鍍膜鼓上纏繞有PET基材，所述下側箱設置在真空箱下端裝置主體的內部，下側箱和真空箱之間設有隔板且隔板上配合PET基材設有開槽口，開槽口右側隔板上設有空腔，空腔內部穿插有限流擋板,限流擋板右側設有推桿，推桿右側穿插通過裝置主體的右側壁，開槽口下端設有導管,導管設置在下側箱內部，導管底部設有蒸發舟,導管左側穿插有氧氣輸送管,氧氣輸送管左側連接有氧氣輸送連接管,導管右側穿插有氮氣輸送管，氮氣輸送管右側連接有氮氣輸送連接管，所述攪勻裝置設置在導管內部，攪勻裝置表面設有光滑防附著材料，攪勻裝置上設有轉軸,轉軸通過固定架固定在導管的內部上，固定架設置有兩個且通過限位套管固定在轉軸上，轉軸上設有陣列分布的攪勻桿，轉軸下端設有葉輪,轉軸的軸桿中心位置處設有第一錐形齒,第一錐形齒右側嚙合有第二錐形齒，第二錐形齒固定在轉動軸，轉動軸右側穿插通過導管,轉動軸和導管之間通過軸承固定，轉動軸右端設有第三錐形齒,第三錐形齒上端嚙合有第四錐形齒,第四錐形齒上端固定在伺服電機的輸出軸上，伺服電機固定在導管上。

作為本實用新型進一步的方案：所述推桿上設有刻度線。

作為本實用新型再進一步的方案：所述推桿和限流擋板之間設有活塞。

作為本實用新型再進一步的方案：所述導管的內腔設置成上端直徑大下端直徑小的圓臺狀。

作為本實用新型再進一步的方案：所述氮氣輸送管和氧氣輸送管上都設有流量控制閥。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：

本實用新型高質量氧化鋁真空鍍膜裝置，裝置工作時，蒸發舟將鋁絲加熱蒸發后進入到導管內部，氧氣輸送連接管外鏈接供氧裝置和氮氣輸送連接管外鏈接供氮裝置利用氧氣輸送管和氮氣輸送管向導管內部注入氧氣和氮氣，啟動伺服電機,伺服電機通過第四錐形齒嚙合第三錐形齒與第二錐形齒嚙合第一錐形齒以及轉動軸帶動轉軸,轉軸帶動攪勻桿和葉輪轉動，攪勻桿轉動后可提高鋁和氧氣與氮氣的混合效果，促進氧氣和鋁反應生成氧化鋁，氧化鋁隨氣流蒸鍍于鍍膜鼓的PET基材上，具有生產效率高、質量高等優點，同時葉輪的設置便于促進蒸發后的鋁向上運動，限流擋板橫插在導管內部的長度可便于調整氧化鋁和PET基材的接觸面積。

附圖說明