[實用新型]一種巖樣處理托盤及與之適配的巖樣處理水浴箱

有效

• 申請號: 201820046764.8
• 申請日: 2018-01-11
• 公開（公告）號: CN207946277U
• 公開（公告）日: 2018-10-09
• 發明（設計）人: 石正勇;龔煒;金蕓蕓;任霄宇;李小桃
• 申請（專利權）人: 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司河南油田分公司勘探開發研究院
• 主分類號: G01N1/44
• 分類號: G01N1/44;G01N1/34
• 代理公司: 鄭州睿信知識產權代理有限公司 41119
• 代理人: 胡曉東

1.一種巖樣處理托盤，其特征在于：包括載物盤和與載物盤一體設置的盛物杯，所述載物盤的下表面形成被承接面，被承接面被水浴箱箱體的頂蓋上表面承接，所述盛物杯的杯口所在平面與載物盤的上端面平齊，盛物杯的整體在載物盤上形成下沉式結構。

2.根據權利要求1所述的巖樣處理托盤，其特征在于：所述盛物杯以矩陣形式分布在所述載物盤上。

3.根據權利要求2所述的巖樣處理托盤，其特征在于：所述矩陣形式為八行八列。

4.一種與權利要求1的巖樣處理托盤適配的巖樣處理水浴箱，其特征在于：包括箱體，所述箱體具有頂蓋，頂蓋的上表面形成承接載物盤的承接面，所述頂蓋上設有用于與盛物杯適配以使下沉式結構的盛物杯伸入箱體的讓位孔，所述載物盤的下表面形成被承接面，被承接面被水浴箱箱體的頂蓋上表面承接。

5.根據權利要求4所述的巖樣處理水浴箱，其特征在于：所述讓位孔以矩陣形式分布在頂蓋上。

6.根據權利要求5所述的巖樣處理水浴箱，其特征在于：所述矩陣形式為八行八列。

7.根據權利要求4~6任一項所述的巖樣處理水浴箱，其特征在于：所述箱體上還設有用于向所述箱體內注入水的注水孔。

8.根據權利要求7所述的巖樣處理水浴箱，其特征在于：所述頂蓋為矩形，所述注水孔設于所述頂蓋的角落。

9.根據權利要求8所述的巖樣處理水浴箱，其特征在于：所述箱體上還設有用于插入溫度計的測量孔。

10.根據權利要求9所述的巖樣處理水浴箱，其特征在于：所述測量孔設于頂蓋的與注水孔同一側且遠離注水孔的角落。