[實用新型]一種新型傳感器單晶硅刻蝕裝置

有效

• 申請號: 201820029331.1
• 申請日: 2018-01-09
• 公開（公告）號: CN207966934U
• 公開（公告）日: 2018-10-12
• 發明（設計）人: 張如根
• 申請（專利權）人: 蚌埠市龍子湖區金力傳感器廠
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 安徽力瀾律師事務所 34127
• 代理人: 王際復

1.一種新型傳感器單晶硅刻蝕裝置，包括：反應箱、氣源室、進氣管、出氣管、抽氣裝置、片架、旋轉電機、固定座、立柱、滾動球、環形托架、隔熱襯套、電磁線圈，所述反應箱與氣源室之間通過進氣管連接，所述反應箱的底壁上連接一根出氣管，所述出氣管不與反應箱連接的另一端與抽氣裝置連接，其特征在于：所述旋轉電機固定安裝在反應箱下端面，所述旋轉電機輸出軸向上穿過反應箱底壁后末端固接一個固定座，所述片架固接在固定座上端面處，所述固定座下端面上周向均勻地固接有四根立柱，所述立柱豎直設置，且每個立柱的下端均轉動安裝一個滾動球，所述反應箱底壁上開有環形槽，所述滾動球下端置于環形槽內，所述反應箱外壁上固接有若干環形托架，所述環形托架水平設置且在豎直方向上呈層狀分布，每個環形托架上端面處均開有一個環形凹槽，所述環形凹槽槽底及兩側壁上均固設有隔熱襯套，所述電磁線圈嵌裝在設有隔熱襯套的環形凹槽內。

2.根據權利要求1中所述的一種新型傳感器單晶硅刻蝕裝置，其特征在于：所述抽氣裝置為真空泵或抽風機中的一種。

3.根據權利要求1中所述的一種新型傳感器單晶硅刻蝕裝置，其特征在于：所有立柱置于同一個同心圓上，其同心圓的圓心為旋轉電機輸出軸與固定座連接接點。

4.根據權利要求1中所述的一種新型傳感器單晶硅刻蝕裝置，其特征在于：所述環形托架的數目為4~6個，且電磁線圈的數目與環形托架數目相一致。