[實用新型]電解液供應裝置及電解銅箔制造裝置

有效

• 申請號: 201820028338.1
• 申請日: 2018-01-08
• 公開（公告）號: CN208038572U
• 公開（公告）日: 2018-11-02
• 發明（設計）人: 金相裕;崔玹彰
• 申請（專利權）人: KCF技術有限公司
• 主分類號: C25D1/04
• 分類號: C25D1/04;C25D21/14;C25D3/38;C25D7/06
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 向勇

1.一種電解液供應裝置，其特征在于，包括：

供應部，向陰極部和陽極部之間供應電解液；

輸送部，將電解液從用于儲存電解液的溶解槽輸送到所述供應部；以及調節部，對向所述陰極部和所述陽極部之間供應的電解液的流量進行調節。

2.根據權利要求1所述的電解液供應裝置，其特征在于，

所述供應部包括使從所述輸送部輸送的電解液穿過的多個供應孔，

多個所述供應孔以沿著與銅箔從所述陰極部開卷的開卷方向垂直的寬度方向互相隔開間隔的方式形成。

3.根據權利要求2所述的電解液供應裝置，其特征在于，

所述輸送部包括多個輸送構件，所述輸送構件以沿著所述寬度方向互相隔開間隔的方式設置于所述供應部。

4.根據權利要求3所述的電解液供應裝置，其特征在于，

所述調節部包括分別設置于所述輸送構件的多個調節機構，

多個所述調節機構單獨地對各個所述輸送構件向所述供應部輸送的電解液的流量進行調節，以根據在所述陰極部和所述陽極部之間沿著所述寬度方向配置的供應區域而對電解液的流量進行控制。

5.根據權利要求3所述的電解液供應裝置，其特征在于，

所述供應部包括N個所述供應孔，

所述輸送部包括N個所述輸送構件，其中N為大于2的自然數。

6.根據權利要求4所述的電解液供應裝置，其特征在于，

所述輸送構件分別包括使電解液穿過的多個流路，

所述調節機構對所述流路的開放程度進行調節，以調節穿過各個所述流路的電解液的流量。

7.根據權利要求1所述的電解液供應裝置，其特征在于，

所述輸送部包括多個輸送構件，所述輸送構件以沿著與銅箔從所述陰極部開卷的開卷方向垂直的寬度方向互相隔開間隔的方式設置于所述供應部，

所述調節部包括：測量機構，所述測量機構對從所述陰極部開卷的銅箔的、以寬度方向為基準的厚度分布進行測量；以及分別設置于所述輸送構件的多個調節機構，

多個所述調節機構，根據所述測量機構測量的銅箔的厚度分布單獨地對各個所述輸送構件向所述供應部輸送的電解液的流量進行調節，以根據所述供應區域對電解液的流量進行調節。

8.根據權利要求7所述的電解液供應裝置，其特征在于，

所述調節部包括多個所述測量機構，

所述測量機構以沿著所述寬度方向互相隔開間隔的方式配置，以根據沿著所述寬度方向配置的測量區域，測量從所述陰極部開卷的銅箔的厚度。

9.一種電解銅箔制造裝置，其包括權利要求1至8中任一項所述的電解液供應裝置，其特征在于，還包括：

陰極部，利用電解液以電鍍方式來使銅箔電解沉積；

陽極部，經由電解液與所述陰極部進行通電；

搬運部，對從所述陰極部開卷的銅箔進行搬運；

切割部，對從所述搬運部搬運的銅箔的兩側進行切割；以及

卷取部，對被所述切割部切割的銅箔進行卷繞。