[實用新型]一種環(huán)氧拉環(huán)及制作該環(huán)氧拉環(huán)的模具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820021809.6 | 申請日: | 2018-01-05 |
| 公開(公告)號: | CN207718986U | 公開(公告)日: | 2018-08-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 沈福至;劉輝明;李來風(fēng);徐冬;張恒成;李旭;王永光;李健;李墨囡 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院理化技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | H01F6/00 | 分類號: | H01F6/00;B29C70/54;B29C70/46 |
| 代理公司: | 北京正理專利代理有限公司 11257 | 代理人: | 王喆 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 環(huán)體 環(huán)氧 拉環(huán) 絕緣帶 本實用新型 環(huán)氧玻纖布 磁體系統(tǒng) 加熱固化 周向側(cè)壁 預(yù)浸漬 槽口 模具 超導(dǎo)磁體系統(tǒng) 低溫條件 介質(zhì)材料 相對設(shè)置 固定套 抗拉 漏熱 絕緣 制作 容納 | ||
本實用新型公開了一種環(huán)氧拉環(huán)及制作該環(huán)氧拉環(huán)的模具,所述環(huán)氧拉環(huán)包括第一環(huán)體、與所述第一環(huán)體相對設(shè)置且不相接觸的第二環(huán)體、及固定套設(shè)在第一環(huán)體和第二環(huán)體上的環(huán)狀絕緣帶;所述第一環(huán)體的周向側(cè)壁上和第二環(huán)體的周向側(cè)壁上分別設(shè)有用于容納絕緣帶的第一槽口和第二槽口;所述絕緣帶為經(jīng)過加熱固化的預(yù)浸漬環(huán)氧玻纖布。本實用新型所提供的環(huán)氧拉環(huán)通過采用加熱固化后的預(yù)浸漬環(huán)氧玻纖布作為絕緣及抗拉介質(zhì)材料,其具有抗拉強度高,漏熱低等特點,在低溫條件要求高的磁體系統(tǒng)中對磁體系統(tǒng)的穩(wěn)定性不會產(chǎn)生影響,特別適用于大型、高精度超導(dǎo)磁體系統(tǒng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及超導(dǎo)磁體應(yīng)用領(lǐng)域,特別涉及一種環(huán)氧拉環(huán)及制作該環(huán)氧拉環(huán)的模具。
背景技術(shù)
隨著超導(dǎo)技術(shù)的飛速發(fā)展,超導(dǎo)磁體技術(shù)現(xiàn)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于交通、工業(yè)、生物醫(yī)學(xué)、航空航天以及軍工等領(lǐng)域,如MRI(核磁成像)、變壓器、電力輸送、磁懸浮、高能加速器、核聚變裝置等。這些項目或設(shè)備的正常運行需要高磁場,只能由超導(dǎo)磁體完成。因而,隨著超導(dǎo)磁體得到越來越廣泛的應(yīng)用,如何保證超導(dǎo)磁體系統(tǒng)運行及運輸途中的穩(wěn)定性,就成為了設(shè)計超導(dǎo)磁體的關(guān)鍵技術(shù)之一。
在超導(dǎo)磁體系統(tǒng)中,拉環(huán)是用來保證系統(tǒng)穩(wěn)定性的重要部件之一,主要用于固定超導(dǎo)磁體、冷屏、液氦容器等部件。在超導(dǎo)磁體運行過程中,拉環(huán)會受到來自于磁體自重、預(yù)緊力以及冷縮力。在運輸過程中,則是會受到來自不同方向的動載力。因此,為了確保超導(dǎo)磁體系統(tǒng)運轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性與安全性,拉環(huán)需要有足夠的強度。除此之外,超導(dǎo)磁體系統(tǒng)需要在低溫環(huán)境下才能保持正常運轉(zhuǎn),為了降低運行成本,盡快達到所需溫度,拉環(huán)的漏熱應(yīng)該盡可能的小。現(xiàn)在超導(dǎo)磁體系統(tǒng)中所采用的拉環(huán)大多是普通拉環(huán),雖然具有結(jié)構(gòu)簡單、加工方便的特點,但是往往有靈活性不夠、抗拉強度差、漏熱高等缺陷,在應(yīng)用于磁體質(zhì)量重,低溫條件要求高的磁體系統(tǒng)時,往往效果都不盡人意,甚至對磁體系統(tǒng)的穩(wěn)定性造成很大的影響。有鑒于此,提出一種抗拉強度高、漏熱低的拉環(huán)是非常有必要的。
實用新型內(nèi)容
本實用新型要解決的第一個技術(shù)問題是提供一種抗拉強度高、漏熱低、適用于超導(dǎo)磁體系統(tǒng)中的環(huán)氧拉環(huán)。
本實用新型要解決的第二個技術(shù)問題是提供一種用于制作上述抗拉強度高、漏熱低、適用于超導(dǎo)磁體系統(tǒng)中的環(huán)氧拉環(huán)的模具。
為解決上述第一個技術(shù)問題,本實用新型采用下述技術(shù)方案:
一種環(huán)氧拉環(huán),所述環(huán)氧拉環(huán)包括第一環(huán)體、與所述第一環(huán)體相對設(shè)置且不相接觸的第二環(huán)體、及固定套設(shè)在第一環(huán)體和第二環(huán)體上的環(huán)狀絕緣帶;所述第一環(huán)體的周向側(cè)壁上和第二環(huán)體的周向側(cè)壁上分別設(shè)有用于容納絕緣帶的第一槽口和第二槽口;所述絕緣帶為經(jīng)過加熱固化的預(yù)浸漬環(huán)氧玻纖布。
為解決上述第二個技術(shù)問題,本實用新型采用下述技術(shù)方案:
一種用于制作上述環(huán)氧拉環(huán)的模具,所述模具包括:
底座;
設(shè)置在底座兩端的用于分別套入第一環(huán)體和第二環(huán)體的第一桿體和第二桿體;及
設(shè)置在底座上的用于在制作環(huán)氧拉環(huán)時對連接第一環(huán)體和第二環(huán)體的絕緣帶進行定位的定位件,該定位件位于第一桿體和第二桿體之間。
進一步的,所述模具還包括分別位于所述定位件兩側(cè)的第一夾板和第二夾板。第一夾板和第二夾板用于在制作絕緣帶時與定位件件體兩側(cè)的側(cè)壁配合對纏繞好的絕緣帶進行加緊固定。
進一步的,所述定位件的兩端部分別設(shè)有與第一環(huán)體和第二環(huán)體相匹配對應(yīng)的凹口。
進一步的,所述定位件件體兩側(cè)的側(cè)壁上分別設(shè)有用于容納并定位絕緣帶的通槽。
進一步的,所述定位件包括:
位于底部的底板;
設(shè)置在底板中部為絕緣帶內(nèi)兩側(cè)部提供支撐定位的固定塊;及
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