[發(fā)明專利]一種高磁性材料的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811655243.3 | 申請日: | 2018-12-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109695017A | 公開(公告)日: | 2019-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魯智斌;易家保;趙鳳 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥朗銳環(huán)境工程有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/14 | 分類號(hào): | C23C14/14;C23C14/08;C23C14/35;C23C18/08;H01F41/18;H01F41/22 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥市合*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制備 退火 母體 高磁性材料 磁性材料 磁化 磁性材料領(lǐng)域 磁性納米顆粒 磁控濺射法 制備高性能 材料選擇 材料制備 磁性納米 技術(shù)要點(diǎn) 納米顆粒 強(qiáng)度材料 熱分解法 無線充電 應(yīng)用提供 制備過程 傳感器 磁存儲(chǔ) 高磁化 水熱法 變壓器 磁場 應(yīng)用 鑲嵌 通訊 | ||
1.一種高磁性材料的制備方法,其特征在于:磁性納米顆粒鑲嵌在磁性母體之中,該材料的化學(xué)成分按摩爾百分比計(jì):納米顆粒0-50%,磁性基體/母體材料50%-100%,磁性納米顆粒的海量可以從10%至50%,磁性納米顆粒小于10納米,磁性納米顆粒可以是Fe、Co、Ni、Gd以及稀土金屬或是NiO、CoO、Co3O4、FeO、Fe2O3、Fe3O4反鐵磁和亞鐵磁性磁性納米顆粒,
制備方法可以通過以下幾種制備途徑:
(1)薄膜高磁性材料的制備方法:Ni/NiO為例,利用磁控濺射儀生長一層Ni,一層NiO,再一層Ni,然后再一層NiO,這樣重復(fù)五次,每層的厚度需要精密控制,大約只有1-2納米厚,磁性下退火,通常制備10多層膜后,制備的薄膜在氫氣的氣氛下進(jìn)行退火,退火的溫度通常在100-400度,不同的材料,退火的溫度需要調(diào)整,提供的磁場需要大于0.2特斯拉;
(2)納米顆粒高磁性材料的制備方法:Ni/NiO為例,nickel acetate(1M)和ethyleneglycol(100ml)加熱到194度。nickel acetate分解成Ni,一定濃度的氧氣通入到容器中,Ni/NiO形成,同樣,熱分解法,水熱法都可以來制備高磁性材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述高磁性材料的制備方法,其特征在于:磁性納米顆粒鑲嵌在磁性母體之中,磁性顆粒可以在制備過程當(dāng)中生成,也可以在制備磁性母體后通過退火生成,退火同時(shí)加入磁場,將增加磁性納米和磁性母體之間的相互作用,增加居里點(diǎn)及磁化強(qiáng)度,退火的最佳溫度隨著材料的不同將不同。Ni/NiO最佳溫度在200度,F(xiàn)e/Fe3O4在400度,加入磁場的磁化強(qiáng)度大于0.1特斯拉。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





