[發明專利]一種用于熱室的磁助制樣裝置

在審

• 申請號: 201811653426.1
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN109557117A
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發明（設計）人: 張彤;鄭維明;康海英;陶苗苗
• 申請（專利權）人: 中國原子能科學研究院
• 主分類號: G01N23/2202
• 分類號: G01N23/2202
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于熱室的磁助制樣裝置，其特征在于：所述磁助制樣裝置包括有主體和用于放置樣品杯的滑塊，所述主體包括有主體基座、位于所述主體基座上端面一端的左放置部以及位于所述主體基座上端面另一端的右放置部，其中所述左放置部固定安裝在所述主體基座上端面上，所述左放置部包括有其頂端設置有便于樣品杯自由移動的左開口部以及設置在其上的水平左滑槽；所述右放置部與所述主體基座另一端外邊緣構成可翻轉的鉸接連接，所述右放置部包括有其頂端設置有的便于樣品杯放置的右開口部、設置在其底端上的用于產生磁場的磁構件以及設置在其上的水平右滑槽，所述右開口部其開口尺寸小于所述左開口部開口尺寸，用于形成對所述樣品杯的夾持功能，所述滑塊包括有滑塊主體、設置在所述滑塊主體上用于豎直放置樣品杯的容納槽以及水平向外延伸的一對控制桿，其中所述滑塊主體可通過在所述左滑槽和右滑槽中的水平自由滑動，同步帶動所述樣品杯在所述左開口部和右開口部中的水平移動。

2.根據權利要求1所述的一種用于熱室的磁助制樣裝置，其特征在于：所述左放置部還包括有設置在其底端上的用于防止與樣品杯底部接觸的左凹槽，所述右放置部還包括有設置在其底端上的用于防止與樣品杯底部接觸的右凹槽。

3.根據權利要求1或2所述的一種用于熱室的磁助制樣裝置，其特征在于：所述右放置部其底面上設置有用于固定放置所述磁構件的安裝槽。

4.根據權利要求3所述的一種用于熱室的磁助制樣裝置，其特征在于：所述磁構件為銣磁鐵。

5.根據權利要求1所述的一種用于熱室的磁助制樣裝置，其特征在于：所述控制桿為圓柱形長桿。