[發(fā)明專利]一種干式清洗裝置的收納體組件以及干式清洗裝置

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• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN109759390A
• 公開（公告）日: 2019-05-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 聶海洋;鄧映柳
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市富諾依科技有限公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02;B08B7/00;B08B13/00
• 代理公司: 重慶信航知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 50218
• 代理人: 穆祥維

本發(fā)明公開了一種干式清洗裝置的收納體組件，其包括：收納體，用于容納清洗介質(zhì)，所述收納體具有開口端，所述開口端構(gòu)造成與清洗對象接觸；氣體動(dòng)力單元，設(shè)置于所述收納體上，并可將外界氣體引入到所述收納體中在所述收納體中形成氣流帶動(dòng)所述清洗介質(zhì)同所述清洗對象相撞；吹吸端口，所述吹吸端口設(shè)置在所述收納體上，對所述收納體的內(nèi)部進(jìn)行吹氣，以在所述收納體的內(nèi)部產(chǎn)生循環(huán)氣流。本發(fā)明還公開了一種干式清洗裝置。本發(fā)明公開的干式清洗裝置的收納體組件和干式清洗裝置不產(chǎn)生清洗廢液，具有環(huán)保的優(yōu)點(diǎn)，且通過設(shè)置吹吸端口提高清洗效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及清洗設(shè)備領(lǐng)域，特別涉及一種干式清洗裝置的收納體組件以及干式清洗裝置。

背景技術(shù)

目前清洗技術(shù)的發(fā)展對于處理電子、半導(dǎo)體和光學(xué)工業(yè)中的污染、室內(nèi)有毒氣體和粉塵污染有重要意義。

隨著產(chǎn)品制備工藝條件的越加嚴(yán)格精準(zhǔn)，污染物的去除要求也越來越苛刻，環(huán)保經(jīng)濟(jì)的高效清洗方法亟待研發(fā)。清洗方式主要分為兩大類，即以液體為清洗介質(zhì)的濕式清洗和以氣體為清洗介質(zhì)的干式清洗。濕式清洗以其高清洗性能和低清洗成本而得到普遍應(yīng)用。近幾年，出現(xiàn)了二流體清洗、超聲清洗等新型的濕式清洗技術(shù)。然而在濕式清洗中，沖洗過程會(huì)產(chǎn)生水痕等二次污染，干燥過程會(huì)增加額外的能量消耗，酸類等化學(xué)添加劑的使用會(huì)對環(huán)境造成危害。此外，一些產(chǎn)品若有水吸附在表面會(huì)造成產(chǎn)品缺陷。

在電子產(chǎn)品的制備工藝過程中，如，在印制基板制造中的由流動(dòng)焊錫槽錫焊工序中，大多使用遮覆錫焊處理區(qū)域以外的夾具。這種遮覆夾具在反復(fù)使用期間，表面堆積焊劑固結(jié)，由于遮覆精度降低，需要定期清洗。一般，這種清洗浸漬在溶劑中進(jìn)行，消耗大量溶劑，不能避免成本上升，對作業(yè)者及環(huán)境的負(fù)擔(dān)也非常大。不通過浸漬而在裝置內(nèi)向清洗對象物噴射溶劑的方式也為人們所公知，但也需要大量使用溶劑。

因此有必要提供一種環(huán)保而有效的清洗裝置。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明旨在克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一方面，本發(fā)明提供了一種干式清洗裝置的收納體組件。所述干式清洗裝置的收納體組件包括：收納體，用于容納清洗介質(zhì)，所述收納體具有開口端，所述開口端構(gòu)造成與清洗對象接觸；氣體動(dòng)力單元，設(shè)置于所述收納體上，并可將外界氣體引入到所述收納體中在所述收納體中形成氣流帶動(dòng)所述清洗介質(zhì)同所述清洗對象相撞；吹吸端口，所述吹吸端口設(shè)置在所述收納體上，對所述收納體的內(nèi)部進(jìn)行吹氣，以在所述收納體的內(nèi)部產(chǎn)生循環(huán)氣流。

在一些實(shí)施例中，所述氣體動(dòng)力單元包括：壓縮氣體源；

氣體噴射部，連接于所述壓縮氣體源，用于對所述收納體內(nèi)的清洗介質(zhì)施加氣體動(dòng)力帶動(dòng)所述清洗介質(zhì)同所述清洗對象相撞。

在一些實(shí)施例中，所述氣體噴射部為多個(gè)，其均勻分布設(shè)置在所述收納體的底部。

在一些實(shí)施例中，所述干式清洗裝置的收納體組件還包括上下位置調(diào)整單元，所述上下位置調(diào)整單元設(shè)置在所述收納體上，并可調(diào)節(jié)所述氣體噴射部在所述收納體的內(nèi)部上下方向上的位置。

在一些實(shí)施例中，所述上下位置調(diào)節(jié)單元包括：滑軌以及驅(qū)動(dòng)件；

所述收納體的底部設(shè)置有安裝槽，所述氣體噴射部安裝在所述安裝槽內(nèi)，所述滑軌設(shè)置在所述安裝槽與所述氣體噴射部之間；

所述氣體噴射部上設(shè)置有滑動(dòng)部，所述滑動(dòng)部設(shè)置在所述滑軌中，并可在所述驅(qū)動(dòng)件的驅(qū)動(dòng)下帶動(dòng)所述氣體噴射部相對所述滑軌上下移動(dòng)。

在一些實(shí)施例中，所述干式清洗裝置的收納體組件還包括左右擺動(dòng)角度調(diào)整單元，所述左右擺動(dòng)角度調(diào)整單元設(shè)置在所述收納體上，并可調(diào)節(jié)所述氣體噴射部在左右方向上的擺動(dòng)角度。